Про порядок контролю за експортом, імпортом і транзитом окремих видів виробів, обладнання,матеріалів, програмного забезпечення і технологій, що можуть використовуватися для створення озброєння, військової чи спеціальної техніки
Втратив чинність Постанова · Кабінет Міністрів України · від 22 серпня 1996 р. · № 1005
- Внесено до реєстру
- 18 червня 1997 р.
- Код у реєстрі
- 1070/1997
Опубліковано: Офіційний вісник України від 29.10.2008, № 0, ст. 0
експортімпорттранзитобладнанняозброєннятехніка військова
Зміст
- I. Загальна частина
- II. Порядок здійснення контролю за переміщенням товарів подвійного використання
- III. Порядок експорту (реекспорту) з України товарів подвійного використання
- IV. Порядок імпорту в Україну товарів подвійного використання
- V. Порядок транзиту через територію України товарів подвійного використання
- VI. Розділ VI виключено
- VII. Розділ VII виключено
- VIII. Розділ VIII виключено
- IX. Розділ IX виключено
- РОЗДІЛ 1
- РОЗДІЛ 2
- РОЗДІЛ 3
- РОЗДІЛ 4
- РОЗДІЛ 6
- РОЗДІЛ 7
- РОЗДІЛ 8
- РОЗДІЛ 9
- РОЗДІЛ 1
- РОЗДІЛ 4
- РОЗДІЛ 6
- РОЗДІЛ 7
- РОЗДІЛ 8
- РОЗДІЛ 9
КАБІНЕТ МІНІСТРІВ УКРАЇНИ
ПОСТАНОВА
від 22 серпня 1996 р. N 1005
Київ
Про порядок контролю за експортом, імпортом і транзитом окремих видів виробів, обладнання, матеріалів, програмного забезпечення і технологій, що можуть використовуватися для створення озброєння, військової чи спеціальної техніки
Із змінами і доповненнями, внесеними
постановами Кабінету Міністрів України
від 10 квітня 1998 року N 482,
від 18 серпня 1998 року N 1320,
від 15 червня 1999 року N 1042,
від 7 жовтня 1999 року N 1856
(Дія Положення про порядок контролю за експортом, імпортом і транзитом окремих видів виробів, обладнання, матеріалів, програмного забезпечення і технологій, що можуть використовуватися для створення озброєння, військової чи спеціальної техніки, не поширюється на операції з імпорту та транзиту товарів, зазначених у підпункті 1.1.11 додатка до цього Положення, згідно з постановою Кабінету Міністрів України від 10 квітня 1998 року N 482)
(Вказівка на те, що дія Положення не поширюється на операції з імпорту та транзиту товарів, зазначених у підпункті 1.1.11 додатка до цього Положення, втратила чинність у зв'язку з втратою чинності постанови Кабінету Міністрів України від 10.04.98 р. N 482 згідно з постановою Кабінету Міністрів України від 18 серпня 1998 року N 1320)
З метою підвищення ефективності національної системи експортного контролю, а також залучення сучасних виробів, обладнання, матеріалів, програмного забезпечення і технологій, необхідних для подальшого розвитку економіки, Кабінет Міністрів України ПОСТАНОВЛЯЄ:
1. Затвердити Положення про порядок контролю за експортом, імпортом і транзитом окремих видів виробів, обладнання, матеріалів, програмного забезпечення і технологій, що можуть використовуватися для створення озброєння, військової чи спеціальної техніки (додається).
2. Державній службі експортного контролю забезпечити організацію контролю за експортом, імпортом і транзитом окремих видів виробів, обладнання, матеріалів, програмного забезпечення і технологій, що можуть використовуватися для створення озброєння, військової чи спеціальної техніки.
(пункт 2 із змінами, внесеними згідно з
постановами Кабінету Міністрів України
від 18.08.98 р. N 1320,
від 15.06.99 р. N 1042)
3. Визнати такими, що втратили чинність, розділи "Метали і мінерали", "Інші матеріали та комплектуючі", "Верстати та інше обробне устаткування", "Електротехнічне та енергетичне обладнання", "Спеціальне устаткування" та "Електроніка, електронні системи, вироби приладобудування" Переліку видів сировини, матеріалів, обладнання і технологій, які можуть використовуватися для створення зброї, військової і спеціальної техніки, вивезення яких за межі України може здійснюватися лише за спеціальним дозволом, затвердженого постановою Кабінету Міністрів України від 4 березня 1993 р. N 159 "Про перелік видів сировини, матеріалів, обладнання і технологій, вивезення яких за межі України може здійснюватися лише за спеціальним дозволом".
Прем'єр-міністр України
П. ЛАЗАРЕНКО
Інд. 30
ЗАТВЕРДЖЕНО
постановою Кабінету Міністрів України
від 22 серпня 1996 р. N 1005
ПОЛОЖЕННЯ
про порядок контролю за експортом, імпортом і транзитом
окремих видів виробів, обладнання, матеріалів, програмного
забезпечення і технологій, що можуть використовуватися
для створення озброєння, військової чи спеціальної техніки
I. Загальна частина
(У тексті Положення слова "Комісія" та "Комітет" в усіх відмінках замінено словом "Держекспортконтроль" у відповідному відмінку згідно з постановою Кабінету Міністрів України від 18 серпня 1998 року N 1320)
1. Загальний порядок здійснення державного контролю за міжнародними передачами товарів подвійного використання встановлено Положенням про державний експортний контроль в Україні, затвердженим Указом Президента України від 13 лютого 1998 р. N 117.
Це Положення визначає особливості державного контролю за міжнародними передачами товарів подвійного використання незалежно від умов поставки, характеру угод, митного режиму та інших особливостей переміщення цих
товарів.
(пункт 1 в редакції постанови Кабінету
Міністрів України від 18.08.98 р. N 1320)
2. Для цілей цього Положення терміни "товари", "товари подвійного використання", "міжнародні передачі товарів", "експорт", "реекспорт" "імпорт", "транзит" та інші вживаються у значеннях, наведених у Положенні про державний експортний контроль в Україні, затвердженому Указом Президента України від 13 лютого 1998 р. N 117, із змінами і доповненнями, внесеними Указом Президента України від 26 березня 1999 р. N 283.
(пункт 2 в редакції постанов Кабінету
Міністрів України від 18.08.98 р. N 1320,
від 15.06.99 р. N 1042)
3. Дія цього Положення поширюється на всі суб'єкти підприємницької діяльності, що здійснюють будь-які види зовнішньоекономічної діяльності з товарами подвійного використання, включаючи зовнішню торгівлю, науково-технічне співробітництво, спеціалізацію та кооперацію у галузі виробництва, науки і техніки, демонстрацію експонатів на міжнародних виставках та ярмарках, прибережну і прикордонну торгівлю, операції обміну, виконання робіт, надання послуг тощо.
4. Товари, міжнародні передачі яких контролюються згідно з цим Положенням, перелічено у Списку товарів подвійного використання (далі - Список), що додається.
Відомості про експорт та імпорт окремих категорій товарів подаються Держекспортконтролем через МЗС міжнародним організаціям, членом яких є Україна, в установленому порядку, терміни і формах.
(абзац другий пункту 4 в редакції постанови
Кабінету Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
Абзац третій пункту 4 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
Коди товарів за ТН ЗЕД наводяться у Списку довідково. Головною ознакою для прийняття рішення щодо необхідності отримання дозволу (висновку) Держекспортконтролю є відповідність заявленого до митного оформлення товару найменуванню та опису відповідного товару, наведеного у Списку.
(пункт 4 в редакції постанови Кабінету
Міністрів України від 18.08.98 р. N 1320)
5. Експорт товарів подвійного використання, що містять відомості, які становлять державну таємницю, здійснюється відповідно до законодавства з питань охорони державної таємниці.
Укладання суб'єктами підприємницької діяльності України договорів (контрактів) щодо експорту, участі у міжнародних виставках, розповсюдження рекламних проспектів зазначених товарів здійснюється суб'єктами підприємницької діяльності за дозволом Держекспортконтролю.
Під час укладення суб'єктами зовнішньоекономічної діяльності зовнішньоекономічних договорів (контрактів) про здійснення експорту технологій, у тому числі як результатів відповідних науково-дослідних, дослідно-конструкторських та інших видів робіт, до їх змісту в обов'язковому порядку вносяться положення про охорону прав інтелектуальної власності експортера або положення, що визначають обсяги і порядок переходу права цієї власності до іншої особи.
(пункт 5 доповнено абзацом третім згідно з постановою
Кабінету Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
6. Переговори, пов'язані з укладенням зовнішньоекономічних договорів (контрактів) про здійснення міжнародних передач товарів подвійного використання до держав, щодо яких встановлені обмеження на поставки таких товарів, а також подання Держекспортконтролю звіту про їх підсумки здійснюються суб'єктами зовнішньоекономічної діяльності відповідно до Положення про порядок державного контролю за проведенням переговорів, пов'язаних з укладенням зовнішньоекономічних договорів (контрактів) про здійснення міжнародних передач товарів військового призначення та подвійного використання, затвердженого постановою Кабінету Міністрів України від 4 лютого 1998 р. N 125 (Офіційний вісник України, 1998 р, N 5, ст. 184, N 22, ст. 810).
(пункт 6 в редакції постанови Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
II. Порядок здійснення контролю за переміщенням товарів подвійного використання
7. Контроль за переміщенням товарів подвійного використання передбачає:
реєстрацію суб'єктів підприємницької діяльності Держекспортконтролем;
(абзац другий пункту 7 в редакції
постанови
Кабінету Міністрів України від 18.08.98 р. N 1320)
надання дозволу (позитивного висновку) Держекспортконтролем на здійснення експорту (реекспорту), імпорту та інших операцій з товарами;
(абзац третій пункту 7 із змінами, внесеними згідно із
постановою Кабінету Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
декларування та митне оформлення товарів;
отримання (надання) у разі потреби відповідних гарантій щодо кінцевого призначення та місця їх використання;
здійснення контролю за їх використанням споживачами і у разі потреби проведення перевірок на місцях заявленого використання або перебування цих товарів;
відповідальність за порушення встановленого порядку здійснення операцій з товарами.
8. Реєстрація суб'єктів підприємницької діяльності, які планують здійснювати міжнародні передачі товарів, проводиться у порядку, встановленому Держекспортконтролем.
(пункт 8 в редакції постанови Кабінету
Міністрів України від 18.08.98 р. N 1320)
9. Експорт товарів подвійного використання та імпорт окремих видів цих товарів здійснюються суб'єктами підприємницької діяльності на підставі дозволів Держекспортконтролю.
(абзац перший пункту 9 в редакції постанови
Кабінету Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
Абзац другий пункту 9 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
Абзац третій пункту 9 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
Абзац четвертий пункту 9 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
Дозвіл Держекспортконтролю на право здійснення експорту будь-якого виробу чи обладнання, передбаченого Списком, надає право на передачу тому самому імпортеру (кінцевому споживачеві) комплекту технічної документації (технічних даних), необхідної для налагодження, експлуатації та використання цього виробу за цільовим призначенням в обсягах, визначених цим дозволом.
(пункт 9 доповнено абзацом згідно з постановою
Кабінету Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
10. Товари подвійного використання підлягають обов'язковому декларуванню та пред'явленню для митного оформлення митним установам.
(абзац перший пункту 10 із змінами, внесеними
згідно з постановою Кабінету Міністрів України
від 15.06.99 р. N 1042)
Абзац другий пункту 10 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
11. Пункт 11 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
12. Процедура отримання (надання) відповідних гарантій щодо кінцевого призначення та місця використання товарів подвійного використання передбачає надання імпортером експортеру:
достовірних відомостей про кінцевого споживача, кінцеве призначення та місце використання зазначених у договорі (контракті) товарів;
зобов'язань імпортувати товари тільки до заявленої країни призначення, а якщо вони не будуть імпортовані до неї, то не передавати їх до іншого місця призначення;
зобов'язань не реекспортувати імпортовані товари до третіх країн без дозволу органів експортного контролю країни-імпортера (призначення).
Необхідні зобов'язання (гарантії) можуть бути надані у вигляді імпортного сертифіката, сертифіката кінцевого споживача чи іншого документа, що містить їх.
Порядок оформлення цих документів визначається законодавством країни-імпортера (призначення).
Відомості про зобов'язання (гарантії), зазначені в цьому пункті, в окремих випадках за рішенням Держекспортконтролю, можуть не вноситися до зовнішньоекономічного договору (контракту), а імпортний сертифікат або його аналог може не надаватися в разі експорту товарів до країн, які є членами міжнародного режиму експортного контролю "Вассенаарська домовленість".
(пункт 12 доповнено абзацом згідно з постановою
Кабінету Міністрів України від 18.08.98 р. N 1320)
13. Сертифікат кінцевого споживача оформляється кінцевим споживачем товару, як правило, за встановленою формою і містить, як мінімум, відомості про:
реєстраційний номер та дату видачі;
споживача товару (повна назва, адреса, сфера діяльності);
експортера
товару (повна назва, адреса);
найменування і повний опис товару із зазначенням коду за ТН ЗЕД;
кількість товару та його одиницю виміру;
місце установки та/або використання товару;
кінцеве призначення товару,
а також гарантії про те, що товар буде використано виключно із заявленою метою і не буде передаватися в інші місця використання без письмової згоди на це органу експортного контролю країни призначення.
Сертифікат підписується керівником і скріплюється печаткою підприємства, установи, організації, що його видала.
14. Імпортний сертифікат (або його аналог) оформляється імпортером в уповноваженому на це органі країни-імпортера (призначення) і містить, як правило, відомості про:
реєстраційний номер та дату видачі;
імпортера (повна назва, адреса);
експортера (повна назва, адреса);
найменування і повний опис товару із зазначенням коду за ТН ЗЕД;
кількість товару та його одиницю виміру;
а також гарантії про те, що зобов'язання, які прийняв на себе імпортер стосовно країни призначення та нереекспорту товару в треті країни, перебуватимуть під його контролем і у разі потреби сертифікат підтвердження доставки буде надано органам експортного контролю країни-експортера;
Сертифікат підписується керівником і скріплюється печаткою органу державної влади, що його видав.
15. Якщо імпортером і кінцевим споживачем є одна юридична особа, сертифікат кінцевого споживача може не оформлятися, а його положення можуть бути включені імпортером до тексту договору (контракту).
16. У разі коли імпортер не є суб'єктом підприємницької діяльності країни призначення, експортер повинен отримати від нього документи, що підтверджують:
зобов'язання імпортера про те, що імпортований товар буде використано виключно із заявленою метою і не буде копіюватися, видозмінюватися, модернізуватися, а також передаватися чи реекспортуватися іншому споживачу без письмової згоди на це органів експортного контролю країни-експортера;
гарантії державного органу країни-імпортера, який має на це відповідні повноваження, що виконання зобов'язань стосовно кінцевого призначення, місця використання та вжиття заходів щодо запобігання несанкціонованому реекспорту, які прийняв на себе імпортер, перебуватиме під його контролем і право перевірки їх виконання може бути надано представникам країни-експортера за участю компетентних органів країни-імпортера.
17. Порядок здійснення контролю за використанням експортованих (імпортованих) товарів подвійного використання кінцевими споживачами та проведення перевірок на місцях використання або перебування таких товарів установлюється відповідним Положенням, що затверджується Кабінетом Міністрів України.
18. Відповідальність за збір інформації щодо надійності імпортера, наявність у нього відповідних повноважень, отримання достовірних відомостей про кінцевого споживача, кінцеве призначення і місце використання товару, що експортується, а також отримання оригіналів сертифіката кінцевого споживача, імпортного сертифіката, а у разі потреби й інших документів, які дають змогу отримати необхідні зобов'язання (гарантії) та однозначно визначити кінцевого споживача, мету і місце використання товару, несе експортер у порядку, встановленому законодавством України.
III. Порядок експорту (реекспорту) з України товарів подвійного використання
19. Експорт (реекспорт) з України зазначених у Списку товарів здійснюється суб'єктами підприємницької діяльності (далі - експортерами) за умови одержання разового або генерального дозволу Держекспортконтролю, а у випадках, передбачених пунктом 29 цього Положення, за висновком Держекспортконтролю.
20. Пункт 20 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
21. Для одержання дозволу експортер надсилає Держекспортконтролю лист із стислим викладенням підстави та мети звернення, до якого додає:
(абзац перший пункту 21 із змінами, внесеними згідно з
постановою Кабінету Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
заяву на одержання дозволу за типовою формою, що затверджується Держекспортконтролем;
абзац третій пункту 21
виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
завірену в установленому порядку копію зовнішньоекономічного договору (контракту) на експорт (реекспорт) зазначених у заяві товарів до країни призначення (включаючи завірену копію договору комісії, доручення тощо, якщо експортером є організація-посередник);
абзац п'ятий пункту 21 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
оригінали документів, які встановлюють зобов'язання та гарантії імпортера (кінцевого споживача) товару стосовно кінцевого призначення та місця його використання;
довідки, які містять повне найменування, стислий опис, відомості про призначення (із зазначенням кінцевого комплексу чи виробу, основну та можливу сферу використання, а також комплектність (варіанти) поставки кожного об'єкта, що експортується (для матеріалів - сертифікат якості).
22. У разі потреби за рішенням Держекспортконтролю оформлюються висновки відповідних органів державної виконавчої влади стосовно можливості та умов здійснення експорту. Експортер має право попередньо узгодити умови експорту з відповідним міністерством чи відомством.
23. Пункт 23 виключено
(пункт 23 із змінами, внесеними згідно з постановою
Кабінету Міністрів України від 18.08.98 р. N 1320,
виключено згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
24. Експортери, укладаючи договори (контракти) на експорт товарів, включених до Списку, обов'язково зазначають кінцевого споживача, кінцеве призначення та місце використання товарів, а також зобов'язання (гарантії) імпортера, що ці товари будуть передані тільки заявленому кінцевому споживачеві без копіювання, видозмінення чи модернізації та не будуть передаватися (реекспортуватися) іншому споживачеві без письмової згоди на це експортера та органів експортного контролю України.
25. Експортер зобов'язаний оформлювати міжнародні договори (контракти) відповідно до вимог законодавства України та міжнародних правил торгівлі, а також зазначати у них:
згоду імпортера, якщо він є кінцевим споживачем, на право експортера здійснювати у разі потреби перевірку (за участю компетентних органів України та країни-імпортера) використання експортованих товарів відповідно до заявленої мети і місця;
те, що договір (контракт) набуває чинності після отримання експортером (імпортером) необхідних дозволів (ліцензій) відповідних органів експортного контролю.
26. Пункт 26 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
27. До заяви на отримання дозволу на експорт програмного забезпечення і технологій, крім документів, передбачених пунктом 21 цього Положення, додаються два примірники анотованого викладу програмного забезпечення і технологій та документи, які підтверджують факт відсутності чи наявності у їх змісті відомостей, що становлять державну таємницю. Ці документи оформляються згідно з вимогами законодавства України і подаються у двох примірниках.
(пункт 27 із змінами, внесеними згідно з постановою
Кабінету Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
28. Реекспорт товарів, включених до Списку, здійснюється згідно з порядком, передбаченим цим Положенням для експорту таких товарів. При цьому, крім зазначених, експортером подаються документи, які підтверджують відсутність обмежень на реекспорт з боку постачальника (країни-експортера) цих товарів в Україну.
29. Для отримання дозволу на тимчасове вивезення (пересилання) товарів з метою демонстрування (реклами) на виставках, ярмарках, проведення випробувань, сертифікації, виконання ремонту тощо, яке не передбачає переходу права власності, експортер надсилає Держекспортконтролю лист із стислим викладенням підстави та мети звернення, до якого додає:
запрошення організаторів виставки (ярмарку) із зазначенням відомостей про її найменування, місце і термін експонування товарів або договір (контракт) на проведення робіт з випробування, сертифікації тощо;
зобов'язання (гарантії) імпортера (кінцевого споживача) щодо повернення експонатів у визначений термін без змін їх кількісних та якісних
характеристик;
документ, що містить повний опис товару та його код за ТН ЗЕД;
документ, що підтверджує заставну вартість товару.
30. Тимчасове вивезення товарів за угодами, які передбачають перехід права власності, здійснюється на підставі дозволу Держекспортконтролю.
31. Усі документи, що подаються Держекспортконтролю, мають бути складені державною мовою. До документів, складених іноземною мовою, обов'язково додаються їх офіційні переклади.
IV. Порядок імпорту в Україну товарів подвійного використання
32. Ввезення на митну територію України товарів, включених до Списку, за винятком тих, які позначені зірочкою (*), здійснюється без дозволу Держекспортконтролю в порядку, встановленому законодавством України.
Ввезення товарів, які у Списку позначені зірочкою, здійснюється на підставі генерального або разового дозволу Держекспортконтролю, а у випадках, передбачених пунктом 37 цього Положення, за висновком Держекспортконтролю.
33. Для одержання дозволу на ввезення товару імпортер надсилає Держекспортконтролю лист із стислим викладенням підстави та мети звернення, до якого додає:
заяву на одержання дозволу за типовою формою, що затверджується Держекспортконтролем;
абзац третій пункту 33 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
завірену в установленому порядку копію зовнішньоекономічного договору (контракту) на передачу товарів, що імпортуються, українському імпортеру (якщо він є кінцевим споживачем);
завірену копію договору комісії, доручення, якщо імпортером є організація-посередник;
абзац шостий пункту 33 виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
сертифікат кінцевого споживача товару, оформлений українським споживачем за встановленою формою;
завірені копії ліцензій, наданих імпортеру (кінцевому споживачеві) на право займатися відповідною діяльністю, пов'язаною із заявленими до імпорту товарами, а саме: придбанням, розробленням, виробництвом, використанням або реалізацією, якщо така діяльність підлягає ліцензуванню;
довідки, які містять повне найменування, стислий опис, відомості про призначення (із зазначенням кінцевого комплексу чи виробу), основну та можливу сферу використання, а також комплектність (варіанти) поставки, основні тактико-технічні характеристики кожного об'єкта, що імпортується (для матеріалів - сертифікат якості).
34. Погодження з відповідними органами державної влади умов імпорту (включаючи тимчасове ввезення) та використання (реалізації) зазначених у заяві товарів здійснюється у разі потреби за рішенням Держекспортконтролю. Імпортер має право попередньо узгодити умови імпорту та/або використання (реалізації) товарів, що імпортуються, з відповідними міністерствами чи відомствами.
35. Якщо імпортер подає заяву про отримання генерального дозволу, замість копій договорів (контрактів) може подаватися їх перелік або план імпорту чи витяг з переліку продукції, що поставлятиметься відповідно до міжнародних договорів України, з обов'язковим зазначенням повного опису товару, його коду за ТН ЗЕД, одиниці виміру, кількості.
36. На запит іноземного експортера гарантії Уряду України щодо вжиття заходів до запобігання несанкціонованому реекспорту надаються Держекспортконтролем і оформляються у вигляді імпортного сертифіката України або іншого документа, який містить необхідні гарантії (зобов'язання).
(пункт 36 із змінами, внесеними згідно з постановою
Кабінету Міністрів України від 18.08.98 р. N 1320)
37. Для отримання дозволу на тимчасове ввезення товарів за характером угод, які не передбачають переходу права власності (демонстрування (реклама) на виставках, ярмарках або проведення випробувань, виконання ремонту тощо), імпортер надсилає Держекспортконтролю лист із стислим викладенням підстави та мети звернення, до якого додає:
запрошення організаторів виставки (ярмарку) із зазначенням відомостей про її найменування, місце і термін експонування товарів або договір (контракт) на проведення робіт з випробування, сертифікації тощо;
завірені копії ліцензій, наданих імпортеру (кінцевому
споживачеві) на право займатися відповідною діяльністю, пов'язаною із заявленими до імпорту товарами, а саме: придбанням, розробленням, виробництвом, використанням або реалізацією, якщо така діяльність підлягає ліцензуванню;
погоджені з відповідним органом державної виконавчої влади умови тимчасового використання зазначених у заяві товарів;
документ, що містить повне найменування та стислий опис товару із зазначенням коду за ТН ЗЕД.
38. Тимчасове ввезення товарів за характером угод, які передбачають перехід права власності (купівля-продаж, обмін тощо), здійснюється на підставі дозволу Держекспортконтролю.
V. Порядок транзиту через територію України товарів подвійного використання
39. Транзит іноземних товарів через територію України здійснюється без дозволу Держекспортконтролю у загальному порядку, встановленому законодавством.
(пункт 39 в редакції постанови Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
40. Пункт 40 виключено
(пункт 40 із змінами, внесеними згідно з постановою
Кабінету Міністрів України від 18.08.98 р. N 1320,
виключено згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
VI. Розділ VI виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
VII. Розділ VII виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
VIII. Розділ VIII виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
IX. Розділ IX виключено
(згідно з постановою Кабінету
Міністрів України від 15.06.99 р. N 1042)
Додаток
до Положення про порядок контролю
за експортом, імпортом і транзитом
окремих видів виробів, обладнання,
матеріалів, програмного забезпечення
і технологій, що можуть використовуватися
для створення озброєння, військової
чи спеціальної техніки, затвердженого
постановою Кабінету Міністрів України
від 22 серпня 1996 р. N 1005
(в редакції постанови
Кабінету Міністрів України
від 18 серпня 1998 р. N 1320)
СПИСОК
товарів подвійного використання
* Розділ 1. ПЕРСПЕКТИВНІ МАТЕРІАЛИ *
******************************************************************
* Номер * Найменування продукції * Код товару *
* пункту * * за ТН ЗЕД *1. ПЕРСПЕКТИВНІ МАТЕРІАЛИ
1.A. СИСТЕМИ, ОБЛАДНАННЯ І КОМПОНЕНТИ
1.A.1. Компоненти, наведені нижче, вироблені
[1A001] із сполук, що містять фтор:
1.A.1.a. Ущільнення, прокладки, ущільнювальні 391990900
матеріали або трубчаті ущільнення,спеціально призначені для "літальних
апаратів" чи для використання ваерокосмічній техніці та виготовлені
більше ніж на 50 вагових відсотків з
матеріалу, зазначеного у пунктах1.C.9.b або 1.C.9.c;
Примітки 1. Коди товарів за ТН ЗЕД наводяться у
Списку довідково. Головною ознакою для
прийняття рішення є відповідністьзаявленого до митного оформлення товару
найменуванню та опису відповідномутовару, що наведено у цьому Списку.
2. У пункті 1.A.1. та далі за текстом
Списку у графі "номер пункту" (в
квадратних дужках) наводяться кодитоварів за системою їх класифікації
державами-учасницями Європейського
Союзу.
1.A.1.b. П'єзоелектричні полімери та сополімери, 392190900
виготовлені з фтористих матеріалів,
зазначених у пункті 1.C.9.a:
1. У формі плівки або листа; та
2. Завтовшки понад 200 мкм;
1.A.1.c. Ущільнення, прокладки, гнізда клапанів, 391990900
трубчаті ущільнення
чи діафрагми,
виготовлені з фтороластомірів, які
містять щонайменше один вініловиймономер і спеціально призначені для
"літальних апаратів" чи для
використання в аерокосмічній аборакетній техніці;
1.A.2. "Композиційні" структури або ламінати
[1A002] (шаруваті матеріали), які містять у
собі будь-що з наведеного нижче:
1.A.2.a. Органічну "матрицю" і вироблені з 392690100матеріалів, що підлягають контролю за
пунктами 1.C.10.c, 1.C.10.d чи1.C.10.e; або
Примітка За пунктом 1.A.2.a контролю не
підлягають завершені вироби абонапівфабрикати, спеціально призначені
тільки для наведеного нижче цивільного
використання:
1. У спортивних товарах;
2. В автомобільній промисловості;
3. У верстатобудівній промисловості;
4. У медичних цілях.
1.A.2.b. Металеву або вуглецеву "матрицю" івиготовлені з:
1. Вуглецевих "волокнистих або з 3801нитковидних матеріалів" з:
а. Питомим модулем пружності понад 392690100
10,15 х 10 в ступ. 6 м; та
b. Питомою межею міцності при розтягові 690310000
понад 17,7 х 10 в ступ. 4 м або
2. Матеріалів, що підлягають контролю 392690100
за пунктом 1.C.10.c. 810192000
810890300
810890700
Примітка За пунктом 1.A.2.b. контролю не
підлягають завершені вироби абонапівфабрикати, спеціально призначені
тільки для наведеного нижче цивільного
використання:
1. У спортивних товарах;
2. В автомобільній промисловості;
3. У верстатобудівній промисловості;
4. У медичних цілях.
Технічна Питомий модуль пружності: модуль Юнга,
примітка виражений в паскалях або в Н/кв. м,
поділений на питому вагу в Н/куб. м
виміряні при температурі (296 +- 2) К
[(23 +- 2) град. С] та відносній
вологості (50 +- 5) відсотків.
Технічна Питома межа міцності при розтягові:
примітка найбільша межа міцності до розриву,
виражена в паскалях або в Н/кв. м
поділена на питому вагу в Н/куб. м,
виміряні при температурі (296 +- 2) К
[(23 +- 2) град. С] та відносній
вологості (50 +- 5) відсотків.
Примітка За пунктом 1.A.2 контролю непідлягають композиційні структури або
шаруваті матеріали, виготовлені з
епоксидної смоли, імпрегнованої
"волокнистими або нитковиднимиматеріалами" для ремонту авіаційних
конструкцій або шаруваті матеріали,
якщо їх розмір не перевищує 1 кв.
метр.
1.A.3. Вироби з полімерних речовин, що не 391990900
[1A003] містять фториди і підлягають контролю 392099900
за пунктом 1.C.8.a.3, у виглядіплівки, листа, стрічки або смужки:
1.A.3.a. Завтовшки понад 0,254 мм; або
1.A.3.b. Покриті чи ламіновані вуглецем,
графітом, металами або магнітнимиречовинами.
Примітка За пунктом 1.A.3 контролю не
підлягають вироби, покриті або
ламіновані міддю і призначені для
виробництва електронних друкованихплат.
1.A.4. Обладнання для захисту та виявлення і
[1A004] їх частини, наведені нижче, спеціально
не
призначені для військовоговикористання:
1.A.4.a. Газові маски, коробки протигазів з 902000900
фільтрами та обладнання для 903300000знезараження і їх частини, призначені
або модифіковані для захисту відбіологічних факторів чи радіоактивних
матеріалів, "пристосованих для
військового використання", або відбойових хімічних речовин;
1.A.4.b. Захисні костюми, рукавиці та взуття, 621020000
спеціально призначені або модифіковані 621030000
для захисту від біологічних факторів чи з 640590
радіоактивних матеріалів,
"пристосованих для військовоговикористання" або для бойових хімічних
речовин;
1 A.4.c. Ядерні, біологічні та хімічні системи з 9027
виявлення і їх частини, спеціально 903010900
призначені або модифіковані для 903300000виявлення або ідентифікації біологічних
факторів чи радіоактивних матеріалів,
"пристосованих для військовоговикористання" або для бойових хімічних
речовин.
Примітка За пунктом 1.A.4 контролю непідлягають:
а. Особисті радіаційні моніторингові
дозиметри;
b. Обладнання, обмежене конструктивним
або функціональним призначенням для
захисту від токсичних речовин,
специфічних для цивільноїпромисловості, такої як гірнича справа,
роботи у кар'єрах,
сільськогосподарська, фармацевтична,
медична, ветеринарна діяльність,харчова промисловість, а також робіт,
пов'язаних із захистом навколишнього
природного середовища та переробкою
відходів.
1.A.5. Засоби захисту тіла і спеціально 620429900
[1А005] призначені для них компоненти,
виготовлені не за військовимистандартами або специфікаціями і не
рівноцінні їм у виконанні.
Примітки 1. За пунктом 1.A.5 контролю непідлягають індивідуальні бронежилети та
приладдя до них, коли вони знаходяться
у власності їх користувачів з метою
його/її персонального захисту.
2. За пунктом 1.A.5 контролю не
підлягають засоби захисту тіла,
призначені тільки для забезпеченняфронтального захисту як від уламків,
так і від вибуху невійськових вибухових
пристроїв.
1.B. ОБЛАДНАННЯ ДЛЯ ВИПРОБУВАННЯ, КОНТРОЛЮ
І ВИРОБНИЦТВА
1.B.1. Обладнання для виробництва волокон,[1В001] препрегів, преформ або "композиційних"
матеріалів чи виробів, що підлягають
контролю за пунктами 1.A.2 або1.C.10, наведені нижче, і спеціально
призначені компоненти до них тадопоміжні пристрої:
1.B.1.a. Машини для намотування волокон, в яких 844630000
переміщення, пов'язані с позиціюванням, з 8448
обволіканням та намотуванням волокон,
координуються і програмуються за трьома
або більше осями і спеціально
призначені для виробництва
"композиційних" матеріалів або
ламінатів з "волокнистих абонитковидних матеріалів";
1.B.1.b. Машини для намотування стрічки або 844630000троса, в яких переміщення, що пов'язані з 8448
з позиціюванням і намотуванням стрічки,
троса або
рулону, координуються і
програмуються за двома або більшеосями, і спеціально призначені для
виробництва елементів корпусів бойових
ракет або каркасу літаків з"композиційних" матеріалів;
1.B.1.c. Ткацькі машини або машини для 844621000плетіння, що діють в різних вимірах і з 8448
напрямках, включаючи адаптери та
пристрої для зміни функцій машин,
призначених для ткацтва або
переплетення волокон з метоювиготовлення "композиційних"
матеріалів;
Примітка За пунктом 1.B.1.c контролю не
підлягають ткацькі машини, які немодифіковані для зазначеного кінцевого
використання.
1.B.1.d. Обладнання, наведене нижче, спеціально
призначене або пристосоване длявиробництва зміцнених волокон:
1. Обладнання для перетворення 845610000
полімерних волокон, таких як 845690000поліакрилонітрил, віскоза, пек або з 8466
полікарбосилан, у вуглецеві або 851580900
карбідкремнієві волокна, включаючи 851590000
спеціальне обладнання для зміцнення
волокон в процесі нагрівання;
2. Обладнання для осадження парів 841780900хімічних елементів або складних 841790000
речовин на нагріту нитковидну
підкладку з метою виробництвакарбідокремнієвих волокон;
3. Обладнання для виробництва 844590000
термостійкої кераміки методом
вологого намотування (такої якоксид алюмінію);
4. Обладнання для перетворення шляхом 845180900
термооброблення волокон 845190000
алюмініймістких прекурсорів у
волокна, які містять глинозем(оксид алюмінію);
1.B.1.e. Обладнання для виробництва препрегів, з 8451
які підлягають контролю за пунктом з 8477
1.C.10.e, методом гарячого плавлення;
1.B.1.f. Обладнання для неруйнівного контролю, 902219000
здатне виявляти дефекти в трьох вимірах 902229000
із застосуванням методів ультразвукової 902290000
або рентгенівської томографії, 903180390спеціально створене для "композиційних" 903180990
матеріалів. 903190900
1.B.2. Системи і компоненти, спеціально[1В002] призначені для запобігання забрудненню
і для виробництва металевих сплавів,
порошкоподібних металевих сплавів або
матеріалів на основі сплавів, які
підлягають контролю за пунктами1.C.2.a.2, 1.C.2.b або 1.C.2.c.
1.B.3. Робочі інструменти, прес-форми, форми 820730100
[1В003] або приладдя для "надпластичного
формування" або "дифузійногозварювання" титану або алюмінію, або їх
сплавів, спеціально призначені длявиробництва:
1.B.3.a. Каркасів літаків або аерокосмічнихконструкцій;
1.B.3.b. Двигунів "літальних апаратів" абоаерокосмічних апаратів; або
1.D.3.c. Компонентів, спеціально призначених для
таких конструкцій або двигунів.
1.C. МАТЕРІАЛИ
Технічна Метали та сплави
примітка Терміни "метали" і "сплави" охоплюють
наведені нижче необроблені інапівфабрикатні форми:
Необроблені форми
аноди, кулі, стрічки (включаючи рублені
та дротяні стрічки), металевізаготовки, блоки, сталеві болванки,
брикети, бруски, катоди, кристали,куби, стакани, зерна, гранули, зливки,
глиби, обкатиші, чушки, порошок,кільця, дріб, сляби, шматки металу
неправильної форми, губка, прути;
Напівфабрикатні форми (незалежно від
того, чи облицьовані, анодовані,просвердлені або пресовані вони, чи
ні):
а. Ковані форми або обробленіматеріали, виготовлені шляхом прокату,
волочіння, пресування, гарячоїштамповки, ковки, імпульсні штамповки,
пресування, дроблення, розпилення і
розмелювання, а саме: кутники, швелери,
кільця, диски, пил, пластівці, фольга
та лист, поковки, плити, порошок,
вироби, оброблені пресуванням абоштампуванням, стрічки, фланці, прути
(включаючи зварні брускові прутки,дротяні прути та прокатаний дріт),
профілі, форми, листи, смужки, труби і
трубки (включаючи трубні кільця, трубні
прямокутники та пустотілі трубки),витягнений або екструдований дріт;
b. Ливарний матеріал, виготовлений
шляхом лиття в пісково-глиністі форми,
кокіль, металеві, пластикові або інші
види прес-форм, включаючи лиття під
високим тиском, оболонкові форми та
форми, виготовлені методом порошкової
металургії.
Примітка Мета контролю не повинна порушуватися
під час експорту форм, які видаються за
закінчені вироби, не зазначені у цьому
Списку, але які насправді є
необробленими або напівфабрикатнимиформами, що підлягають контролю.
1.C.1. Матеріали, наведені нижче, спеціально
[1С001] призначені для поглинання
електромагнітних хвиль, абоелектропровідні полімери:
1.C.1.a. Матеріали для поглинання хвиль на 381519000частотах понад 2х10 в ступ. 8 Гц, але 391000000
менших ніж 3х10 в ступ. 12 Гц;
Примітка За пунктом 1.C.1.a. контролю непідлягають:
а. Абсорбери волосяного типу,
виготовлені з натуральних абосинтетичних волокон, з немагнітним
завантаженням для абсорбції;
b. Абсорбери, що не мають магнітних
втрат, робоча поверхня яких не є
плоскою, включаючи піраміди,
конуси, клини та спіралевидніповерхні;
с. Плоскі абсорбери, які мають усі
наведені нижче характеристики:
1. Виготовлені з будь-якого знаведених нижче матеріалів:
а. Пінопластичних матеріалів
(гнучких або негнучких) з
вуглецевим наповненням абоорганічних матеріалів,
включаючи в'язкі домішки, що
забезпечують коефіцієнт
відбиття понад 5 відсотків
порівняно з металом в діапазоні
хвиль, які відрізняються від
середньої частоти падаючоїенергії понад +- 15 відсотків,
і не здатні протистоятитемпературам понад 450 К (177
град. С); або
b. Керамічних матеріалів, якізабезпечують понад 20 відсотків
відбиття порівняно з металами в
діапазоні +- 15 відсотків
середньої частоти падаючої
енергії та не здатнихпротистояти температурам понад
800 К (527 град. С);
Технічна Зразки для проведення випробувань на
примітка поглинання за підпунктом 1.c.1примітки до пункту 1.C.1.a повинні
мати форму квадрата із стороною не
менше п'яти довжин хвиль середньої
частоти і розміщуватись в дальній зоні
випромінювального елемента.
2. З міцністю при розтягові менш ніж
7х10 в ступ. 6 Н/кв. м; та
3. З міцністю на стиснення менш ніж
14х/10 в ступ. 6 Н/кв. м;
d. Плоскі абсорбери, вироблені ізспеченого фериту, що мають:
1. Питому вагу понад 4,4; та
2. Максимальну робочу температуру548 К (275 град. С).
Особлива За попередньою приміткою контролю також
примітка підлягають фарби, які містять у своєму
складі магнітні матеріали, якізабезпечують поглинання хвиль.
1.C.1.b. Матеріали для поглинання хвиль на 381519000частотах, що перевищують 1,5 х 10 в 391100000
ступ. 14 Гц, але менших ніж 3,7 х 10 в
ступ. 14 Гц, і не прозорі для видимого
світла;
1.C.1.c. Електропровідні полімерні матеріали з
об'ємною електропровідністю понад 10000
сіменс/м або поверхневим питомим опором
менш ніж 100 Ом/кв. м вироблені на
основі одного з наведених нижчеполімерів:
1. Поліанілін; 390930000
2. Поліпірол; 391190900
3. Політіофен; 391190900
4. Поліфенілен-вінілен; а6о 391190900
5. Політіофенілен-вінілен. 391990900
Технічна Об'ємна електропровідність тапримітка поверхневий питомий опір визначаються
відповідно до стандартної методики ASTM
D-257 або її національногоеквіваленту.
1.C.2. Металеві сплави, порошки для металевих
[1С002] сплавів та сплавлені матеріали,наведені нижче:
Примітка За пунктом 1.C.2 контролю непідлягають металеві сплави, порошки
металевих сплавів або сплавленіматеріали, призначені для грунтувальних
покриттів.
1.C.2.a. Металеві сплави, наведені нижче:
1. Сплави на основі нікелю або титану у
формі алюмінідів, наведені нижче, у
необробленій сировині абонапівфабрикатній формі:
а. Нікелеві алюмініди, що містять 750220000
мінімально 15 вагових відсотків,
максимально 38 вагових відсотків
алюмінію і принаймні одиндодатковий елемент легування;
b. Титанові алюмініди, що містять 10 810810100
чи більше вагових відсотків
алюмінію і принаймні одиндодатковий елемент легування;
2. Металеві сплави, наведені нижче, що
виготовлені з порошкового металевого
сплаву або мають вкрапленняматеріалів, які підлягають контролю
згідно з пунктом 1.C.2.b:
а. Нікелеві сплави з: 750220000
1. Терміном експлуатації доруйнування 10000 годин або
більше при навантаженні 676
МПа при температурі 923 К (650
град. С); або
2. З низьким показником циклової
втоми 10000 циклів випробувань
або більше і навантаженні 1095
Мпа при температурі 823 К (550
град. С);
b. Ніобієві сплави з: 811291310
1. Терміном експлуатації до 811299300руйнування 10000 годин або
більше при навантаженні 400
МПа при температурі 1073 К
(800 град. С); або
2. З низьким показником циклової
втоми 10000 циклів випробувань
або більше і навантаженні 700
Мпа при температурі 973 К (700
град. С);
с. Титанові сплави з: 810810100
1. Терміном експлуатації доруйнування 10000 годин або
більше при навантаженні 200
МПа при температурі 723 К (450
град. С); або
2. З низьким показником циклової
втоми 10000 циклів випробувань
або більше і навантаженні 400
МПа при температурі 723 К (450
град. С);
d. Алюмінієві сплави з межею з 760120міцності при розтягові:
1. 240 МПа або більше при 760429100температурі 473 К (200 град. 760820910
С); або
2. 415 МПа або більше при 760820990температурі 298 К (25 град.
С);
е. Магнієві сплави з межею міцності з 8104
при розтягові 345 МПа та більше
і швидкістю корозії менш як 1 мм
на рік у 3-відсотковому водному
розчині хлориду натрію,
виміряної відповідно достандартної методики ASTM G-31
або її національногоеквіваленту;
Технічні 1. До металевих сплавів, зазначених у
примітки пункті 1.C.2.a, належать ті, якімістять більший ваговий відсоток
зазначеного металу, ніж іншихелементів.
2. Термін експлуатації до руйнування
(межу тривалої міцності) потрібно
визначати відповідно до стандартної
методики ASTM E-139 або їїнаціонального еквіваленту.
3. Показник циклової втоми потрібно
визначати відповідно до стандартної
методики ASTM E-606 "Рекомендація з
тестування на циклову втому при
постійній амплітуді" або їїнаціонального еквівалента.
Тестування потрібно проводити унапрямку осі при середньому значенні
показника напруги, рівному одиниці,
та коефіцієнті концентрації напруги
(Kt), рівному одиниці. Середня
напруга дорівнює різницімаксимальної та мінімальної напруги,
поділеній на максимальну напругу.
1.C.2.b. Порошки металевих сплавів або частинки
матеріалів, наведені нижче, дляматеріалів, що підлягають контролю за
пунктом 1.C.2.a:
1. Виготовлені з будь-якої з наведених
нижче композицій:
Технічна Х - надалі відповідає одному абопримітка більше елементам, що входять до
складу сплаву.
a. Нікелеві сплави (Ni-Al-X, 750400000Ni-X-Al),
призначені для
використання у складі частин чи
компонентів турбін двигунів,
тобто з менше ніж трьоманеметалевими частками (введеними
у процесі виготовлення),більшими за 100 мкм в 10 в ступ.
9 частках сплаву;
b. Ніобієві сплави (Nb-Al-X або 811291310
Nb-X-Al, Nb-Si-X або Nb-X-Si, 811299300
Nb-Ti-X a6o Nb-X-Ti);
c. Титанові сплави (Ті-Аі-Х або 810810100
Ti-X-Al);
d. Алюмінієві сплави (Al-Mg-X або з 7603
Al-X-Mg, Al-Zn-X або Al-X-Zn,
Al-Fe-X або Al-X-Fe); або
e. Магнієві сплави (Mg-Al-X або 810430000
Mg-X-Al); та
2. Виготовлені у контрольованому
середовищі за допомогою будь-якого
з наведених нижче процесів:
а. "Вакуумне розпилення";
b. "Газове розпилення";
с. "Центробіжне розпилення";
d. "Різке охолодження";
е. "Спінінгування розплаву" та"подрібнення";
f. "Екстракція розплаву" та"подрібнення"; або
g. "Механічне легування";
1.C.2.c. Сплавлені матеріали у формі 750300900
неподрібнених гранул, стружки або 750400000тонких стержнів, які виготовляються у 750512000
контрольованому середовищі методом 760200100"різкого охолодження", "спінінгування 760320000
розплаву" або "екстракції розплаву", і 760429100
використовуються під час виробництва з 8104,
порошку для металевих сплавів або 8108, 8112матеріалу у формі часток, що підлягають
контролю за пунктом 1.C.2.b.
1.C.3. Магнітні метали усіх типів та будь-якої
[1C003] форми, що мають будь-яку з наведених
нижче характеристик:
1.C.3.a. Початкова відносна магнітна проникність 850511000
120000 або більше і завтовшки 0,05 мм з 850519
або менше; 850519100
Технічна Вимірювання початкової відносноїпримітка магнітної проникності має здійснюватися
на повністю відпалених матеріалах.
1.C.3.b. Магнітострикційні сплави, які мають 720690000
будь-яку з наведених нижчехарактеристик:
1. Магнітострикційне насичення понад 5
х 10 в ступ. мінус 4; або
2. Коефіцієнт магнітомеханічногозчеплення більше 0,8; або
1.C.3.c. Аморфна або нанокристалічна стружка з 7206сплаву, яка має усі наведені нижче 750400000
характеристики:
1. Склад мінімум 75 вагових відсотків з 8105
заліза, кобальту або нікелю;
2. Магнітна індукція насичення (Bs) -
1,6 Т або більше; та
3. Будь-що з наведеного нижче:
a. Товщина стружки 0,02 мм абоменше; або
b. Питомий електричний опір 2 х 10 в
ступ. мінус 4 Ом/см, або більше.
Технічна Нанокристалічні матеріали, зазначені у
примітка пункті 1.C.3.c, - це матеріали, щомають кристалічні зерна розміром 50 нм
і менше і визначаються дифракцією Х -
променів.
*1.C.4. Ураново-титанові сплави або вольфрамові 284410000
[1C004] сплави з "матрицею" на основі заліза, 810810100
нікелю чи міді, які мають усі такі 810199000
характеристики:
a. Густиною понад 17,5 г/куб. см;
b. Межа пружності понад 1250 МПа;
c. Межа
міцності на розрив понад 1270
МПа; та
d. Відносне подовження понад 8відсотків.
* Продукція, імпорт якої здійснюється за
дозволом Держекспортконтролю.
1.C.5. "Надпровідні" "композиційні" провідники
[1C005] завдовжки понад 100 м або масою понад
100 г, наведені нижче:
1.C.5.a. Багатожильні "надпровідні" 811299300"композиційні" провідники, що містять 854419900
одну або більше ніобієво-титановихниток:
1. Укладені у "матрицю", іншу ніж з
міді або "матрицю" в основа якої не
містить міді; або
2. Мають площу поперечного перерізу
меншу ніж 0,28 х 10 в ступ. мінус 4 кв. мм
(6 мкм у діаметрі в разі, коли нитка
має круглий переріз);
1.C.5.b. "Надпровідні" "композиційні"провідники, які містять одну або більше
"надпровідних" ниток не з ніобій-титану
і мають всі наведені нижчехарактеристики:
1.C.5.b. 1. "Критична температура" при нульовій
магнітній індукції перевищує 9,85 К
(-263,31 град. С), але нижче 24 К
(-249, 16 град. С);
2. Площа поперечного перерізу менше ніж
0,28 х 10 в ступ. мінус 4 кв. мм та
3. Залишаються у стані "надпровідності"
при температурі 4,2 К (-268,96 град.
С), у разі перебування у магнітному
полі з магнітною індукцією 12 Т.
1.C.6. Рідини та мастильні матеріали, наведені
[1C006] нижче:
1.C.6.a. Гідравлічні рідини, що містять якосновні складові компоненти будь-які з
наведених нижче речовин чи матеріалів:
1. Синтетичні вуглеводні мастила або 381900000
кремнієво-вуглеводні мастила, що 290919000
мають усі наведені нижче 391000000характеристики:
Примітка Для матеріалів, зазначених у пункті
1.C.6.a.1, крємній-вуглеводні мастила
містять виключно кремній, водень та
вуглець.
a. Температура займання понад 477 К
(204 град. C);
b. Температура застигання 239 К (-34
град. C) або нижче;
c. Коефіцієнт в'язкості 75 чи більше;
та
d. Термостабільність при 616 К (343
град. C), або
2. Хлорофторвуглецеві матеріали, які 381900000
мають усі наведені нижче 382390900характеристики: з 2812, 282
Примітка Для матеріалів, зазначених у пункті
1.C.6.a.2, хлорофтор-вуглеці містять
виключно хлор, фтор і вуглець.
a. Без температури займання;
b. Температура самозаймання понад 977 К
(704 град. C);
c. Температура застигання 219 К (-54
град. C) і нижче;
d. Коефіцієнт в'язкості 80 чи більше;
та
e. Температура кипіння 473 К (200 град.
C) і вище;
1.C.6.b. Мастильні матеріали, що містять як їх
основні складові, так і будь-яку з
наведених нижче речовин абоматеріалів:
1. Феніленові чи алкилфеніленові ефіри 290930900
чи тіоефіри або їх суміші, які 293090800
містять більш як дві ефірні або
тіоефірні функції або їх суміші;
або
2. Фторовані рідини, що містять кремній 391000000
і мають кінематичну в'язкість менш
як 5000 кв. мм/с (5000 сантістоксів)
при
температурі 298 К (25 град. C);
1.C.6.c. Зволожувальні чи флотуючі рідини з
показником чистоти більш як 99,8відсотка, які містять менше ніж 25
часток розміром 200 мкм і більше в
об'ємі 100 мл і виготовлені принаймні
на 85 відсотків з будь-яких з наведених
нижче речовин або матеріалів:
1. Дібромтетрафторетан; 290340800
2. Поліхлортрифторетилен (лише 390469000
маслянисті та воскоподібнімодифікації); або
3. Полібромтрифторетилен; 390469000
1.C.6.d. Фторвуглецеві охолоджуючі рідини для 382390980
електроніки, що мають усі наведені
нижче характеристики:
1. Містять 85 вагових відсотків або
більше однієї з наведених нижче
речовин, або суміші з них:
а. Мономерні форми
перфторполіалкілефір-триазинів
або перфтораліфатачних ефірів;
b. Перфторалкіламіни;
с. Перфторциклоалкани; або
d. Перфторалкани;
2. Густина 1,5 г/мл або більше при 298
К (25 град. C):
3. Рідкий стан при 273 К (0 град. C);
та
4. Мають 60 вагових відсотків абобільше фтору.
Технічна Для матеріалів пункту 1.C.6:
примітка a. Температура займання визначається з
використанням методу Клівлендської
відкритої чаші, описаного встандартній методиці ASTM D-92 або в
її національному еквіваленті;
b. Температура застигання визначається
з використанням методу, описаного в
стандартній методиці ASTM D-97 або
її національному еквіваленті;
c. Коефіцієнт в'язкості визначається з
використанням методу, описаного в
стандартній методиці ASTM D-2270 або
її національному еквіваленті;
d. Термостабільність визначається
наведеною нижче методикоювипробувань або в її національному
еквіваленті:
двадцять мл випробуваної рідини
заливають у камеру об'ємом 46 мл з
корозійно-стійкої сталі марки 317,
що містить шари номінальногодіаметру 12,5 мм з інструментальної
сталі марки М-10, сталі марки 52100
та корабельної бронзи (60 відсотків
Си, 39 відсотків Zn, 0,75 відсотків
Sn);
камера, продута азотом,загерметизована при тиску, рівному
атмосферному, та температурі,підвищеній до 644 +- 6 К (371 +- 6
град. C) і витриманій на цьому рівні
6 годин;
зразок вважається
термостабільним, якщо після
закінчення зазначеної процедури
виконуються усі наведені нижчеумови:
1. Втрата ваги кожного шару не
перевищує 10 мг/кв. мм йогоповерхні;
2. Зміна початкової в'язкості,визначеної при 311 К (38 град.
С), не перевищує 25 відсотків;
та
3. Загальне кислотне або базовечисло не перевищує 0,40;
e. Температура самозаймання
визначається методом, описаним в
стандартній методиці ASTM E-659 або
її національному еквіваленті.
1.C.7. Матеріали накерамічній основі,
[1C007] не-"композиційні" керамічні матеріали,
матеріали типу "композит" з керамічною
"матрицею", а також їх напівфабрикати,
наведені нижче:
1.C.7.a. Основні матеріали з простих або 285000900складних боридів титану, які містять
металеві домішки, крім навмиснихдомішок, на рівні менш як 5000 частинок
на мільйон при середньому розмірічастинки, рівному чи меншому ніж 5 мкм,
при цьому не більше ніж 10 відсотків
частинок з розміром понад 10 мкм;
1.C.7.b. Не "композиційні" керамічні матеріали 285000900
у формі сирих або напівфабрикатів на
основі боридів титану з густиною 98
відсотків чи більше теоретичноїгустини;
Примітка За пунктом 1.C.7.b контролю непідлягають абразиви.
1.C.7.c. "Композиційні" матеріали типу з 2849
кераміка-кераміка із скляною або з 285000
оксидною "матрицею" та армовані 880390990волокнами, виготовленими з будь-якої з 930690
з наведених нижче систем:
1. Si-N;
2. Si-C;
3. Si-Al-O-N; або
4. Si-O-N,
що мають питому межу міцності при
розтягові, що перевищує 12,7 х 10 в
ступ. 3 м;
1.C.7.d. "Композиційні" матеріали типу 880390990кераміка-кераміка з однорідної з 930690
металевої фази або без неї, що включає
частинки, вуса (нитковиднімонокристали) або волокна, в яких
"матриця" сформована з карбідів або
нітридів кремнію, цирконію чи бору;
1.С.7.e. Початкові матеріали (тобто полімерні 391000000
або металоорганічні спеціальногопризначення) для виробництва будь-якої
фази або фаз матеріалів, що підлягають
контролю за пунктом 1.C.7.c, наведені
нижче:
1. Полідіорганосилани (для виробництва
карбіду кремнію);
2. Полісилазани (для виробництванітриду кремнію);
3. Полікарбосилазани (для виробництва
кераміки з кремнієвими, вуглецевими
та азотними компонентами);
1.C.7.f. "Композиційні" матеріали з 6903
кераміка-кераміка з оксидною або 691490900
скляною "матрицею", армованою
однорідними волокнами будь-якої знаведених нижче систем:
1. Al2O3; або
2. Si-C-N.
Примітка За пунктом 1.C.7.f контролю не
підлягають "композити", що маютьволокна з цих систем з межею міцності
при розтягові менш як 700 МПа при 1273
К (1000 град. С) або опору повзучості
розриву волокон понад 1 відсотокнапруги повзучості при навантаженні 100
МПа та 1273 К (1000 град. С) протягом
100 годин.
1.C.8. Полімерні речовини, наведені нижче, що
[1C008] не містять фтор:
1.C.8.a. 1. Бісмалеіміди; 2925199002. Ароматичні поліамід-іміди 390890000
3. Ароматичні полііміди; 390930000
4. Ароматичні поліефіріміди, які мають 390720900
температуру переходу в склоподібний 390791900
стан (Tg) понад 513 К (240 град. C),
виміряну сухим методом, описаним у
стандартній методиці ASTM D 3418;
Примітка За пунктом 1.C.8.a контролю не
підлягають неплавкі порошки дляформоутворення під тиском або фасованих
форм.
1.C.8.b. Термопластичні рідкокристалічні 390791900
сополімери, які мають температурутеплової деформації понад 523 К (250
град. C), виміряну відповідно достандартної методики ASTM D 648 метод A
або її національного еквіваленту під
час навантаження 1,82 Н/кв. мм, і
утворені сполученням:
1. Будь-яким з наведених нижче:
a. Фенілену, біфенілену абонафталену; або
b. Метилу, третинного бутилуабо феніл-заміщеного фенілену,
біфенілену або нафталену; та
2. Будь-якою з наведених нижче кислот:
1.C.8.b. 2. a. Терефтальовою;
b. 6-гідрокси-2 нафтіоновою; або
c. 4-гідроксибензойною;
1.C.8.c. Поліариленові ефірні кетони, наведені
нижче:
1. Поліефіроефірокетон (PEEK); 390791900
2. Поліефірокетон-кетон (PEEK); 390791900
3. Поліефірокетон (PEK); 390791900
4. Поліефірокетон ефірокетон-кетон 390791900
(PEKEKK);
1.C.8.d. Поліариленові кетони; 3907990001.C.8.e. Поліариленові сульфіди, де ариленова 391190900
група є біфеніленом, трифеніленом, чи
їх комбінації;
1.C.8.f. Полібіфеніленефірсульфон. 391190900Технічна Температура переходу до склоподібного
примітка стану (Tg) для матеріалів, зазначених у
пункті 1.C.8, визначається з
використанням методу, описаного встандартній методиці ASTM D 3418, яка
застосовує сухий метод.
1.C.9. Необроблені сполуки фтору, наведені[1C009] нижче:
1.C.9.a. Сополімери вініліденфториду, які 390469000
містять 75 відсотків чи більшебета-кристалічної структури, одержаної
без витягування;
1.C.9.b. Фтористі поліаміди, які містять 10 390469000
вагових відсотків чи більше"зв'язаного" фтору;
1.C.9.c. Фтористі фосфазинові еластомери, які 390469000
містять 30 вагових відсотків чи більше
"зв'язаного" фтору.
1.C.10. "Волокнисті або нитковидні матеріали",
[1C010] що можуть бути використані в органічних
"матрицях", металевих "матрицях" або
вуглецевих "матрицях", "композиційних"
або багатошарових структурах:
1.C.10.a. Органічні "волокнисті або нитковидні 392690100
матеріали", що мають усі наведені нижче
властивості:
1. Питомий модуль, що перевищує 12,7 х
10 в ступ. 6 м; та
2. Питома межа міцності при розтягові,
що перевищує 23,5 х 10 в ступ. 4 м;
Примітка За пунктом 1.C.10.a контролю непідлягає поліетилен.
1.C.10.b. Вуглецеві "волокнисті або ниткоподібні з 3801
матеріали", які мають всі наведені 392690100
нижче характеристики:
1. Питомий модуль, що перевищує 12,7 х 540210100
10 в ступ. 6 м: та
2. Питома межа міцності на розтягання, 540490900
перевищує 23,5 х 10 в ступ. 4 м; 681510000
690310000
Технічна Властивості матеріалів, описаних у
примітка пункті 1.C.10.b, повинні визначатисяза методами SRM 12-17, рекомендованими
Асоціацією виробників удосконалених"композиційних" матеріалів (SACMA) або
їх національними еквівалентами
випробувань на розтяг, наприклад,
японський промисловий стандарт
JIS-R-7601, параграф 6.6.2,які
грунтуються на середній якості партії.
Примітка За пунктом 1.C.10.b контролю не
підлягають тканини, виготовлені з
"волокнистих або нитковиднихматеріалів" для відновлення авіаційних
чи багатошарових матеріалів, розмір
окремих листів яких не перевищує 50х90
см.
1.C.10.c. Неорганічні "волокнисті або нитковидні 392690100
матеріали", які мають усі наведені 810192000
нижче характеристики:
1. Питомий модуль, що перевищує 2,54 х 810890300
10 в ступ. 6 м; та
2. Температура плавлення, 810890700
розм'якшування, розкладу абосублімації, що перевищує 1922 К
(1649 град. С) в інертномусередовищі;
Примітка За пунктом 1.C.10.c контролю непідлягають:
1. Неоднорідні, багатофазні,
полікристалічні волокна оксиду
алюмінію у вигляді переривкоговолокна або в довільній сплутаній
формі, що мають 3 або більше вагових
відсотки оксиду алюмінію з питомим
модулем менше ніж 10 х 10 в ступ. 6
м;
2. Волокна молібденові або змолібденових сплавів;
3. Волокна на основі бору;
4. Неоднорідні керамічні волокна зтемпературами плавлення,
розм'якшення, розкладу та сублімації
нижче ніж 2043 К (1770 град. С) в
інертному середовищі.
1.C.10.d. "Волокнисті або нитковидні матеріали":
1. Які мають будь-яку з наведених нижче
складових:
a. Поліефіріміди, що підлягають 540249990контролю за пунктом 1.C.8.a; або 550190000
b. Матеріали, що підлягають контролю 550390900
за пунктами 1.C.8.b - 1.C.8.f; або 540224990
550190900
550390900
1.C.10.d. 2. Які виготовляються з матеріалів, що
підлягають контролю за пунктами
1.C.10.d.1.a a6o 1.C.10.d.1.b та"сплутані" з іншими волокнами, що
підлягають контролю за пунктами1.C.10.a, 1.C.10.b або 1.C.10.c.
1.C.10.e. Волокна, насичені смолою або пеком з 3801
(препреги), металеві або покриті 392690100
вуглецем волокна ("преформи") або 681510000
"преформи вуглецевого волокна",наведені нижче:
1. Виготовлені з "волокнистих або 681599900
нитковидних матеріалів", що 690310000
підлягають контролю за пунктами з 7019101.C.10.a, 1.C.10.b або 1.C.10.c; з 701920
2. Виготовлені з органічних або
вуглецевих "волокнистих абонитковидних матеріалів":
a. З питомою межею міцності прирозтягові, що перевищує 17,7 х 10
в ступ. 4 м;
b. З питомим модулем, розмір якого
перевищує 10,15 х 10 в ступ. 6 м;
c. Які контролю не підлягають за
пунктами 1.C.10.a або 1.C.10.b;
та
d. Які насичені матеріалами, щопідлягають контролю за пунктами
1.C.8 або 1.C.9.b, і мають
температуру переходу досклоподібного стану (Tg), вищу ніж
383 К (110 град. С), або зфенольною чи епоксидною смолами,
які
мають Tg, що дорівнює або
перевищує 418 К (145 град. С).
Примітки За пунктом 1.C.10.e контролю непідлягають:
1. Вуглецеві "волокнисті або нитковидні
матеріали", насичені - "матрицею"
епоксидної смоли (препреги) для
відновлення авіаційних абобагатошарових матеріалів, в яких розмір
окремих листів препрега не перевищує 50
х 90 см;
2. Препреги, насичені фенольною або
епоксидною смолами, які мають Tg нижче
433 К (160 град. C) та температуру
ствердіння нижче Tg.
Технічна Температура переходу до склоподібного
примітка стану (Тд) для матеріалів, що
підлягають контролю за пунктом
1.C.10.e, визначається методом,
описаним в ASTМ D 3418, іззастосуванням сухого методу. Tg для
фенольних та епоксидних смол
визначається за допомогою методу,описаного в ASTM D 4065, при частоті 1
Гц та швидкості нагрівання 2 К (град.
С) за хвилину із застосуванням сухого
методу.
Технічні 1. Питомий модуль: модуль Юнга впримітки паскалях або в Н/кв. м поділений на
питому вагу в Н/куб. м притемпературі (296 +- 2) К ((23 +- 2)
град. C) та відносній вологості (50
+- 5) відсотків.
2. Питома межа міцності при розтягові:
найбільша межа міцності прирозтягові в паскалях або в Н/кв. м,
і поділена на питому вагу в Н/куб. м
при температурі (296 +- 2) К ((23 +-
2) град. С) та відносній вологості
(50 +- 5) відсотків.
1.C.11. Метали та сполуки, наведені нижче:
[1C011]
1.C.11.a. Метали з розміром часток менш як 60 810430000
мкм, які мають сферичну, розпилену, 810910100
сфероїдальну, розшаровану або молоту
форму, виготовлені з матеріалу, що на
99 відсотків або більше складається з
цирконію, магнію або сплавів з них;
Примітка Метали або сплави, зазначені в пункті
1.C.11.a, підлягають контролю за цим
пунктом незалежно від того, вміщені ці
метали або сплави в капсули алюмінію,
магнію, цирконію або берилію чи ні.
1.C.11.b. Бор або карбід бору чистотою 85 280450100відсотків і більше та розміром часток 284990100
60 мкм і менше;
Примітка Метали або сплави, зазначені в пункті
1.C.11.b, підлягають контролю за цим
пунктом незалежно від того, вміщені ці
метали або сплави в капсули алюмінію,
магнію, цирконію або берилію чи ні.
1.C.11.c. Нітрат гуанідину. 290420900*1.C.12. Матеріали для ядерних джерел теплоти,
[1C012] наведені нижче:
* Продукція, імпорт якої здійснюється за
дозволом Держекспортконтролю.
1.C.12.a. Плутоній у будь-якій формі з вмістом 284420910
ізотопу плутонію-238 більшим як 50 284420990
вагових відсотків;
Примітка За пунктом 1.C.12.a контролю непідлягають:
1. Передача одного грама і меншеплутонію;
2. Передача трьох або менше "ефективних
грамів", що використовуються якчутливі елементи в приладах.
1.C.12.b. "Попередньо розподілений" нептуній-237 284440000
в будь-якій формі.
Примітка За пунктом 1.C.12.b контролю непідлягає передача одного грама або
менше
нептунію-237.
**1.C.13. Брухт легованих чорних металів,
наведений нижче:
1.C.13.a. Нержавіючої сталі; 720421000
1.C.13.b. Інший брухт легованих чорних металів. з 7204
Примітка Відомості про зобов'язання (гарантії),
викладені в пунктах 12, 16 та 24 Положення
про порядок контролю за експортом, імпортом
і транзитом окремих видів виробів,
обладнання, матеріалів, програмного
забезпечення і технологій, що можуть
використовуватися для створення
озброєння, військової чи спеціальної техніки,
у разі експорту товарів, зазначених у пункті
1.C.13, не вносяться до зовнішньоекономічного
договору (контракту), а імпортний сертифікат
або його аналог можуть не подаватися.
(пункт 1.С.13 додатка в редакції постанови
Кабінету Міністрів України від 07.10.99 р. N 1856)
1.D. ПРОГРАМНЕ ЗАБЕЗПЕЧЕННЯ
1.D.1. "Програмне забезпечення", спеціально
[1D001] призначене або модифіковане для
"розроблення", "виробництва" або"використання" обладнання, що підлягає
контролю за пунктом 1.B.
1.D.2. "Програмне забезпечення" для
[1D002] "розроблення" органічної "матриці",
металевої "матриці" або вуглецевої
"матриці", "композиційних" абобагатошарових структур.
1.E. ТЕХНОЛОГІЯ
*1.E.1. "Технологія" відповідно до пункту 3 з 3705
[1E001] загальних приміток для "розроблення" з 3706, 852
або "виробництва" обладнання або 490199000матеріалів, які підлягають контролю за 490600000
пунктами 1.A.1.b, 1.A.1.c, 1.A.2. -
1.A.5, 1.B або 1.C.
* Імпорт "технології" відповідно до пункту 3
загальних приміток для "розроблення або"виробництва" матеріалів, які підлягають контролю
за пунктами 1.C.4 та 1.C.12 здійснюється задозволом Держекспортконтролю.
1.E.2. Інші "технології", наведені нижче: 490199000[1E002] 490600000
1.E.2.a. "Технологія" для "розроблення" або
"виробництва" полібензотіазолів абополібензоксазолів;
1.E.2.b. "Технологія" для "розроблення" або"виробництва" сполук фтореластомерів,
що містять принаймні один мономервінілефіру;
1.E.2.c. "Технологія" для "розроблення" або 490199000
"виробництва" наведених нижче 490600000
матеріалів для основ абоне-"композиційних" керамічних
матеріалів:
1. Матеріали основи, що мають усінаведені нижче характеристики:
а. Будь-яка з наведених нижчекомпозицій:
1. Простих або комплексних оксидів
цирконію і комплексних оксидівкремнію або алюмінію;
2. Простих нітридів бору (з кубічними
формами кристалів);
3. Простих або комплексних карбідів
кремнію або бору;
4. Простих або комплексних нітридів
кремнію;
1.E.2.c. 1.b. "Технологія" для "виробництва"основних матеріалів із сумарними
металевими домішками, за винятком
тих, які вносяться навмисно:
1. Менше 1000 часток на мільйон для
простих оксидів або карбідів;
або
2. Менше 5000 часток на мільйон для
комплексних сполук або простих
нітридів; та
c. Які мають будь-яку з
наведених
нижче характеристик:
1. Середній розмір частки рівний чи
менший ніж 5 мкм (при цьому не
більш як 10 відсотків частинок з
розмірами понад 10 мкм); або
Примітка Для цирконію ці межі розміріввідповідно дорівнюють 1 мкм і 5 мкм
відповідно.
2. Які мають усі з наведених нижче
характеристик:
a. Пластинки із співвідношенням
довжини до товщини, щоперевищує значення 5;
b. Вуса із співвідношеннямдовжини до діаметра понад 10
для діаметрів менше 2 мкм; та
c. Непереривчасті або
переривчасті волокна здіаметром меншим 10 мкм;
2. Не-"композиційні" керамічні
матеріали, що складаються з
матеріалів, описаних у пункті1.E.2.с.1;
Примітка За пунктом 1.E.2.c.2 контролю не
підлягає технологія розроблення тавиробництва абразивів.
1.E.2.d. "Технологія" для "виробництва"ароматичних поліамідних волокон;
1.E.2.e. "Технологія" для складання,
обслуговування та відновленняматеріалів, що підлягають контролю за
пунктом 1.C.1;
1.E.2.f. "Технологія" для відновлення"композиційних", багатошарових структур
або матеріалів, які підлягають контролю
за пунктами 1.A.2, 1.C.7.c або1.C.7.d.
Примітка За пунктом 1.E.2.f контролю не
підлягає "технологія" ремонтуматеріалів для "цивільних літальних
апаратів", під час якоговикористовуються вуглецеві
"волокнисті або нитковидні матеріали"
та епоксидні смоли, описані впосібниках виробників авіатехніки.
* Розділ 2. ОБРОБЛЕННЯ МАТЕРІАЛІВ *
******************************************************************
* Номер * Найменування продукції * Код товару *
* пункту * * за ТН ЗЕД *2. ОБРОБЛЕННЯ МАТЕРІАЛІВ
2.A. СИСТЕМИ, ОБЛАДНАННЯ І КОМПОНЕНТИ
(Підшипники плавного ходу, визначені у
пункті ML9 Списку товарів військового
призначення, міжнародні передачі яких
підлягають державному контролю,
затвердженого постановою КабінетуМіністрів України від 8 грудня 1997 р.
N 1358)
2.A.1. Антифрикційні підшипники, системи[2A001] підшипників і їх компоненти, наведені
нижче:
Примітка За пунктом 2.A.1 контролю непідлягають шарикопідшипники з допусками
на шарики, встановленими виробниками
відповідно до міжнародного стандарту
ISO 3290, класу 5 або нижче.
2.A.1.a. Шарикові та твердороликові підшипники, 848210900
які мають допуски, що встановлюються 848250000
виробником відповідно до АВЕС 7, АВЕС
7P, АВЕС 7Т або міжнародного стандарту
ISO класу 4 і вище (або національних
еквівалентів) і мають кільця, шарики чи
ролики, виготовлені з мідно-нікелевого
сплаву або з берилію;
Примітка За пунктом 2.A.1.a контролю не
підлягають конічні роликовіпідшипники.
2.A.1.b. Інші шарикові та роликові підшипники, 848280000
які мають допуски, встановленівиробником відповідно до АБЕС 9, АБЕС
9Р або міжнародного стандарту ISO класу
2 і вище (або його національнихеквівалентів);
Примітка За пунктом 2.A.1.b контролю не
підлягають конічні роликовіпідшипники.
2.A.1.c. Активні магнітні підшипникові системи, 848330100
які мають одну із зазначених нижче 848330900
складових:
1. Матеріали з магнітною індукцією 2,0Т
або більше і межею текучості понад
414 МПа.
2. Оснащені електромагнітним пристроєм
для приводу з тримірним уніполярним
високочастотним підмагнічуванням;
або
3. Високотемпературні [450 град. К (177
град. С) і більше] позиційнідатчики.
2.B. ОБЛАДНАННЯ ДЛЯ ВИПРОБУВАННЯ,
КОНТРОЛЮ І ВИРОБНИЦТВА
Технічні 1. Вторинні паралельні контурні осі
примітки (осі оброблення) (наприклад,
W-осьова фреза горизонтальної
розточки або вторинна вісь
обертання, центрова лінія якоїпаралельна головній осі обертання)
не враховуються у загальнучисельність контурних осей.
Особлива Осі обертання необов'язковопримітка передбачають поворот на кут, більший за
360 град. Вісь обертання може мати
привід лінійного переміщення
(наприклад, гвинтом або зубчастоюшестірнею).
2. Номенклатура осі визначаєтьсявідповідно до міжнародних стандартів
ISO 841: "Верстати з числовимкеруванням - номенклатура осей і
різновидів рухів".
3. Для цього розділу "нахильні
шпинделі" розглядаються як осіобертання.
4. Замість індивідуальних протоколів
випробувань для кожної моделіверстата можуть бути застосовані
гарантовані рівні точностіпозиціювання, використовуючи
узгоджені процедури випробувань,відповідно до міжнародного стандарту
ISO.
5. Точність позиціювання верстатів з
"числовим керуванням" має бутивизначена і представлена відповідно
до міжнародних стандартів ISO230/2.
2.B.1. Верстати, наведені нижче, та будь-які
[2B001] їх модифікації (комбінації) длярублення або різання металів, кераміки
і "композиційних" матеріалів, яківідповідно до технічних специфікацій
виробника можуть бути оснащеніелектронними пристроями для "числового
керування":
2.B.1.a. Токарні верстати, що мають усі наведені
нижче характеристики:
1. Точність позиціювання менше (краще) з 8458
6 мкм уздовж будь-якої лінійної осі; 846490900
та
2. Дві або більше осі, які можуть бути 846599100
одночасно задані для "контурного
керування".
Примітка За пунктом 2.B.1.a контролю непідлягають токарні верстати, спеціально
розроблені для виробництва контактних
лінз.
2.B.1.b. Фрезерні верстати, що мають будь-яку із з 8459
зазначених нижче характеристик: з 8464
1.a. Точність позиціювання з усією
з 8465
існуючою компенсацією менше(краще) 6 мкм уздовж будь-якої
лінійної осі; та
b. Три лінійні осі плюс одна вісь
обертання, які можуть бутиодночасно задані для "контурного
керування";
2.B.1.b. 2. П'ять або більше осей, які можуть
бути одночасно скоординовані для
"контурного керування"; або
3. Точність позиціювання длякопіювально-розточувальних верстатів
з усією посильною компенсацією менше
(краще) 4 мкм уздовж будь-якоїлінійної осі;
2.B.1.c. Шліфувальні верстати, що мають будь-яку з 8460
із зазначених нижче характеристик: з 8464
1.a. Точність позиціювання з усією з 8465
посильною компенсацією менше(краще) 4 мкм уздовж будь-якої
лінійної осі; та
b. Три або більше осі, які можуть
бути одночасно скоординовані для
"контурного керування"; або
2. П'ять або більше осей, які можуть
бути одночасно скоординовані для
"контурного керування";
Примітки За пунктом 2.B.1.c контролю непідлягають:
1. Шліфувальні верстати для оброблення
зовнішніх циліндричних, внутрішніх
поверхонь, а також комбінованіверстати (для шліфування внутрішніх
та зовнішніх поверхонь), які мають
усі наведені нижче характеристики:
a. Обмежені циліндричним
шліфуванням; та
b. З максимально можливим зовнішнім
діаметром чи довжиною заготовки
150 мм; або
2. Верстати, спеціально спроектовані
для шліфування за шаблоном і які
мають будь-які із зазначених нижче
характеристик:
а. С-вісь застосовується дляпідтримання шліфувального круга у
положенні, перпендикулярному до
робочої поверхні; або
b. А-вісь визначається конфігурацією
шліфування циліндричних
кулачків;
3. Заточувальні і відрізні верстати, що
постачаються як комплектні системи з
"програмним забезпеченням",
спеціально спроектовані длявиробництва інструментів;
4. Верстати для шліфування колінчастих
або кулачкових валів;
5. Плоскошліфувальні верстати.
2.B.1.d. Верстати для електроіскрового 845630000оброблення (EDM) без подачі дроту, що
мають дві або більше осей обертання,
які можуть одночасно бути скоординовані
для "контурного керування";
2.B.1.e. Верстати для оброблення металів, 842430900
кераміки або "композиційних" 845610000матеріалів: 845690000
2.B.1.e. 1. За допомогою:
а. Водяних або інших рідиннихструменів, включаючи струмені з
абразивними добавками;
b. Електронного променя; або
с. Променя лазера; та
2. Які мають дві або більше осейобертання, що:
а. Можуть бути одночасно
позиціоновані для "контурногокерування"; та
b. Мають точність позиціювання менше
(краще) 0,003 градусів;
2.B.1.f. Верстати для свердління глибоких з 8458
отворів та токарні верстати, що 845921модифіковані для свердління глибоких
отворів та забезпечують максимальну
глибину свердління отворів понад 5000
мм, а також спеціально розроблені до
них компоненти.
2.B.2. Позицію вилучено.
2.B.3. Верстати з "числовим керуванням" або з 846140710
[2B003] ручним керуванням і спеціально 846140790
розроблені для них компоненти,обладнання для контролю і оснащення,
спеціально розроблені для шевінгування,
фінішного оброблення, шліфування або
хонінгування загартованих (Rc=40 або
більше) прямозубих циліндричних,
одно- або двозаходових черв'ячних(гвинтових) шестерень з діаметром понад
1250 мм і шириною поверхні зуба, що
дорівнює 15 відсоткам діаметра або
більше, з якістю фінішного оброблення
AGMA 14 або краще (відповідно доміжнародного стандарту ISO 1328 за
класом 3).
2.B.4. "Ізостатичні преси" для гарячого з 846299[2B004] пресування, що мають усі наведені нижче
складові, і спеціально розроблені для
них штампи, форми, компоненти,пристосування і елементи керування:
2.B.4.a. Камери з контрольованими тепловимиумовами всередині замкненої порожнини з
внутрішнім діаметром 406 мм або більше;
та
2.B.4.b. Будь-яку з наведених нижчехарактеристик:
1. Максимальний робочий тиск понад 207
МПа;
2. Контрольовані температурні умовиперевищують 1773 град. К (1500 град.
С); або
3. Обладнання для насичення вуглеводнем
і виведення газоподібних продуктів
розкладу.
Технічна Під внутрішнім розміром камерипримітка розуміють робочі розміри камери, в якій
досягаються як робочий тиск, так і
температура; до розміру камери невключається розмір затискних пристроїв.
Зазначений розмір визначається якменший з двох розмірів: внутрішнього
діаметра камери високого тиску або
внутрішнього діаметра ізольованоїкамери печі залежно від того, яка з цих
камер знаходиться в іншій.
2.B.5. Обладнання, спеціально призначене для
[2В005] осадження, оброблення та контролю в
процесі нанесення неорганічних захисних
шарів покриттів та модифікуванняповерхні, наприклад, для неелектронних
підкладок за допомогою процесів,зазначених в таблиці та в примітках до
пункту 2.E.3.f, а також компоненти,
спеціально призначені дляавтоматизованого регулювання,
позиціювання, маніпулювання тауправління:
2.B.5.a. Виробниче обладнання для хімічного 845690000
осадження з газової фази (CVD), 842420100"кероване вмонтованою програмою", з
усіма зазначеними нижчехарактеристиками:
1. Процес, модифікований для будь-якого
із зазначених нижче методів:
a. Пульсуючого CVD;
b. Кероване зародження центрів
конденсації при термічномуосадженні (CNTD); або
c. Стимульований плазмою або задопомогою плазми CVD; та
2. Використовує будь-що з наведеного
нижче:
a. Високий вакуум (рівний або менше
0,01 Па) ущільнення при обертанні;
або
b. Засоби контролю за товщиною шару
покриття безпосередньо в процесі
осадження;
2.B.5.b. Виробниче обладнання для іонної 845610000
імплантації, "кероване вмонтованоюпрограмою", з силою іонного струму 5 мА
або більше;
2.B.5.c. Виробниче обладнання для 845610000електронно-променевого вакуумного
нанесення покриттів методом фізичного
осадження з парової фази (EB-PVD),
"кероване вмонтованою програмою", яке
має усі наведені нижче складові:
1. Системи електроживлення зрозрахунковою потужністю понад 80
кВт;
2. "Лазерну" систему керування за
рівнем випаровуваної ванни, якаточно регулює швидкість подавання
матеріалів (злитків) у зонувипаровування; та
3. Керований комп'ютером покажчикшвидкості випаровування (монітор),
який працює за принципомфотолюмінесценції іонізованих атомів
у потоці пари, необхідний для
визначення швидкості осадженняскладових покриття, що містить два
або більше елементів;
2.B.5.d. Виробниче обладнання для нанесення 845690000
покриттів методом плазмовогорозбризкування, "кероване вмонтованою
програмою", яке має будь-яку іззазначених нижче характеристик:
1. Працює при зниженому тискуконтрольованої атмосфери (дорівнює
або менш як 10 кПа, вимірюваної вище
або всередині 300 мм вихідногоперерізу сопла плазмового пальника)
у вакуумній камері, здатнійзабезпечити зниження тиску до 0,01
Па перед початком процесу нанесення;
або
2. Має у своєму складі засоби контролю
за товщиною шару покриття в процесі
нанесення;
2.B.5.e. Виробниче обладнання для металізації 845690000
розпиленням, "кероване вмонтованою
програмою", що здатне забезпечитигустину струму 0,1 мА/кв. мм або більше
з продуктивністю напилення 15 мкм/год
або більше;
2.B.5.f. Виробниче обладнання для 851580900катодно-дугового напилення, "кероване
вмонтованою програмою", та з системою
електромагнітів для керування плямою
дуги на катоді;
2.B.5.g. Виробниче обладнання для іонного 845610000
нанесення покриттів, "керованевмонтованою програмою" та здатне в
процесі нанесення вимірювати:
1. Товщину покриття на підкладці та
величину продуктивності; або
2. Оптичні характеристики.
Примітка За пунктами 2.B.5.a, 2.B.5.b,
2.B.5.e, 2.B.5.f, 2.B.5.g контролюне підлягає обладнання для нанесення
покриттів методами хімічного осадження
з газової фази катодно-дуговогонапилення та нанесення розпиленням,
іонного нанесення або іонноїімплантації, спеціально спроектоване
для різальних інструментів таметалообробних верстатів.
2.B.6. Системи або обладнання, наведені нижче,
[2B006] для вимірювання чи контролю зарозмірами:
2.B.6.a. Контрольно-вимірювальне устаткування, 903180310
кероване комп'ютером, з"числовим
керуванням" або "керовані вмонтованою
програмою", які мають тривимірну
(об'ємну) систему з "похибкою
вимірювання" точності вимірювання,
рівною або менше (краще) (1,7 +
L/1000) мкм (де L-довжина, яка
вимірюється в міліметрах), щотестується відповідно до міжнародних
стандартів ISO 10360-2;
2.B.6.b. Вимірювальні пристрої для лінійних або
кутових переміщень наведені нижче:
1. Вимірювальні пристрої для лінійних 903140000
переміщень, які мають будь-яку із
зазначених нижче складових:
a. Вимірювальні системи
безконтактного типу з
"розподілюваністю", рівною або
менше (краще) 0,2 мкм, придіапазоні вимірювань до 0,2 мм;
b. Системи з лінійним регульованим
диференційним перетворювачем
напруги з усіма зазначеними нижче
характеристиками:
1. "Лінійністю", рівною або менше
(краще) 0,1 відсотка, вдіапазоні вимірювань до 5 мм;
та
2. Відхиленням, що дорівнює або
менше (краще) 0,1 відсотка в
день, за стандартних умов з
коливанням навколишньої
температури +- 1 град. К; або
c. Вимірювальні системи, що мають усі
наведені нижче складові:
1. Які містять "лазер"; та
2. Які експлуатуються безперервно
(принаймні 12 годин приколиванні навколишньої
температури +- 1 град. К при
стандартних температурі татиску) і мають усі наведені
нижче характеристики:
a. "Розподілюваність" на їхповній шкалі становить 0,1
мкм або менше (краще); та
b. "Похибка вимірювання"
дорівнює або менше (краще)
(0,2 + L/2000) мкм (де L -
довжина, що вимірюється в
міліметрах);
Примітка За пунктом 2.B.6.b.1 контролю непідлягають вимірювальні
інтерферометричні системи беззворотного зв'язку із замкненим або
відкритим контурами, що містять "лазер"
для вимірювання помилок переміщення
рухомих частин верстатів, засобів
контролю за розмірами абоподібного обладнання.
2. Кутові вимірювальні прилади з 903140000"кутовою девіацією", що дорівнює або 903180310
менше (краще) 0,00025 градусів; 903180910
Примітка За пунктом 2.B.6.b.2 контролю непідлягають оптичні прилади, такі як
автоколіматори, що використовуютьколімоване світло для фіксації кутового
відхилення дзеркала.
2.B.6.c. Обладнання для вимірювання нерівностей 903140000
поверхні з використанням оптичного
розсіювання як функції кута зчутливістю 0,5 нм або менше (краще).
Примітки 1. Верстати, що можуть бути використані
як засіб вимірювання, підлягають
контролю, якщо їх параметри
відповідають або перевищуютькритерії, встановлені для функцій
верстатів або вимірювальнихприладів.
2. Устаткування, зазначене в пункті
2.B.6, підлягає контролю, якщо його
параметри перевищують рівень
контролю в будь-якому робочомудіапазоні.
2.B.7. "Роботи", що мають будь-яку із 847989500
[2B007] зазначених нижче характеристик і 853710100спеціально спроектовані контролери та 853710910
"робочі органи" до них: 853710990
2.B.7.a. Здатні в реальному масштабі часуповністю відобразити процес чи об'єкт у
трьох вимірах з генеруванням або
модифікацією "програм" чи згенеруванням або модифікацією цифрових
даних, що програмуються.
Примітка Обмеження зазначених процесів або
об'єкта не включають апроксимаціютретього виміру через заданий кут або
інтерпретацію через обмеження шкали для
сприйняття глибини або текстуримодифікації завдань (21/2 D).
2.B.7.b. Спеціально розроблені відповідно донаціональних стандартів безпеки, здатні
виробляти вибухівку або вибуховіпристрої;
2.B.7.c. Спеціально спроектовані або оцінюються
як радіаційно стійкі, які витримують
більш як 5 х 10 в ступ. 5 рад (Si) без
операційної деградації; або
2.B.7.d. Спеціально призначені для операцій на
висоті, що перевищує 30000 метрів.
2.B.8. Вузли, блоки та вставки, наведені
[2B008] нижче, спеціально розроблені дляверстатів чи обладнання, що підлягають
контролю за пунктами 2.B.6 або2.B.7:
2.B.8.a. Блоки оцінки лінійного положення із з 8466
зворотним зв'язком (наприклад прилади
індуктивного типу, калібровані шкали,
інфрачервоні системи або "лазерні"системи), які мають повну "точність"
менше (краще) [800 + (600 х L х 10 в
ступ. мінус 3)] нм (L - ефективна
довжина в міліметрах);
Примітка Для "лазерних" систем використовується
також примітка до пункту 2.B.6.b.1.
2.B.8.b. Блоки оцінки положення обертання із з 8466
зворотним зв'язком (наприклад прилади
індуктивного типу, калібровані шкали,
інфрачервоні системи або "лазерні"системи), які мають "точність" менше
(краще) 0,00025 градусів;
Примітка Для "лазерних" систем використовується
також примітка до пункту 2.B.6.b.1.
2.B.8.c. "Складені обертові столи" або з 8466"нахильні шпинделі", використання яких
за специфікацією виробника може
модифікувати верстати до рівня,зазначеного у п. 2.B або вище.
2.B.9. Обкатні вальцювальні та згинальні 846229100[2B009] верстати, які відповідно до технічної 846390100
специфікації виробника можуть бути 846390900обладнані блоками "числового керування"
або комп'ютерного управління і які
мають усі наведені нижчехарактеристики:
2.B.9.a. З двома або більше осями керування, дві
з яких здатні одночасно координуватися
для "контурного керування"; або
2.B.9.b. З підсиленням на обкатному інструменті
понад 60 кН.
Примітка Верстати, в яких поєднані функціїобкатних вальцювальних та згинальних
верстатів, розглядаються для цілейпункту 2.B.9 як такі, що належать до
обкатних вальцювальних верстатів.
2. C. МАТЕРІАЛИ - відсутні
2.D. ПРОГРАМНЕ ЗАБЕЗПЕЧЕННЯ
2.D.1. "Програмне забезпечення", спеціально з 8524
[2D001] призначене або модифіковане для
"розроблення", "виробництва" або"використання" обладнання, зазначеного
в розділах 2.A або 2.B.
2.D.2. "Програмне забезпечення" для з 8524[2D002] електронних пристроїв, у тому числі
вмонтоване, яке надає можливість таким
пристроям або системам функціонувати як
блок "числового керування", здатне
виконувати будь-що із зазначеногонижче:
2.D.2.a. Координувати одночасно понад 4 осі для
"контурного керування"; або
2.D.2.b. Здійснювати "в реальному масштабі часу"
опрацювання даних для зміни траєкторії
переміщення інструменту, швидкостіподачі та положення шпинделя під час
операції, яка виконується верстатом, у
будь-якому із зазначених нижче видів:
1. Автоматичне обчислення тамодифікація програмних даних для
функціонування двох або більше осей
за допомогою вимірювання циклів та
дій з базою даних; або
2. "Адаптивне керування" з більше ніж
однією фізичною змінною, якавиміряна та оброблена за допомогою
комп'ютерної моделі (стратегія) для
зміни однієї або більше машинних
команд для оптимізації процесу.
Примітка За пунктом 2.D.2 контролю не підлягає
"програмне забезпечення", спеціально
розроблене або модифіковане дляверстатів, які не підлягають контролю
за пунктами розділу 2.
2.E. ТЕХНОЛОГІЯ
2.E.1. "Технологія" відповідно до пункту 3 з 3705
[2E001] загальних приміток для "розроблення" з 3706, 8524
обладнання або "програмного 490199000забезпечення", які підлягають контролю 490600000
за пунктами 2.A, 2.B або 2.D.
2.E.2. "Технологія" відповідно до пункту 3 з 3705
[2E002] загальних приміток для "виробництва" з 3706, 8524
обладнання, яке підлягає контролю за 490199000
тактами 2.A або 2.B. 490600000
2.E.3. Інші "технології", наведені нижче: з 3705[2E003] з 3706, 8524
2.E.3.a. "Технологія" для "розроблення" 490199000
інтерактивної графіки як загальної 490600000частини блоків "числового керування"
для підготовки або модифікаціїелементів "програм"
2.E.3.b. "Технологія", наведена нижче, длявиробничих процесів металооброблення:
1. "Технологія" проектування верстатів
(інструментів), пресформ або
затискних пристроїв, спеціально
призначених для будь-якого знаведених нижче процесів:
a. "Надпластичного формування";
b. "Дифузійного зварювання"; або
2.E.3.b. 1. c. "Безпосереднього гідравлічногопресування";
2. Технічні дані, що включають методи
або параметри реалізації процесу,
наведені нижче, які використовуються
для управління:
a. "Надпластичним формуванням"
алюмінієвих, титанових сплавів
або "суперсплавів", включаючи:
1. Підготовку поверхні;
2. Швидкість відносної
деформації;
3. Температуру;
4. Тиск;
b. "Дифузійним зварюванням"
"суперсплавів" або
титанових
сплавів, включаючи:
1. Підготовку поверхні;
2. Температуру;
3. Тиск;
4. Час;
c. "Безпосереднім гідравлічним
пресуванням" алюмінієвих аботитанових сплавів, включаючи:
1. Тиск;
2. Час циклу;
d. "Гарячим ізостатичним
модифікуванням" алюмінієвих і
титанових сплавів або"суперсплавів", включаючи:
1. Температуру;
2. Тиск;
3. Час циклу;
2.E.З.c. "Технологія" для "розроблення" або
"виробництва" гідравлічних витяжнихформувальних машин і відповідних форм
для виготовлення корпусних конструкцій
літака;
2.E.3.d. "Технологія" для "розроблення"генераторів машинних команд (елементів
"програм") з проектних даних, якізнаходяться всередині блоків "числового
керування";
2.E.3.e. "Технологія" для "розроблення"загального "програмного забезпечення"
для об'єднаних експертних систем, які
підвищують у заводських умовахопераційні можливості блоків "числового
керування";
2.E.3.f. "Технологія" використання неорганічних
покриттів або неорганічних покриттів з
модифікацією поверхні (зазначених у
графі 3 "Результуюче покриття" таблиці
до пункту), на неелектронних
"підложках" (зазначених у графі 2"Підложки" таблиці до пункту), процесів
(зазначених у графі 1 "Найменування
процесу нанесення покриття" таблиці до
пункту і визначених приміткою дотаблиці).
* Розділ 2. ОБРОБЛЕННЯ МАТЕРІАЛІВ *
*************************************************************************************
* Таблиця до пункту 2.E.3.f *
* Технічні методи осадження покриття *
*************************************************************************************
* 1. * Найменування процесу * 2. Підложки * 3. Результуюче покриття *
* * нанесення покриття (1)* * *
*************************************************************************************
A. Хімічне осадження з "Суперсплави" Алюмініди для внутрішніхгазової фази (CVD) каналів
Кераміка та скло з Силіциди
малим коефіцієнтом Карбіди
термічного розширення Шари діелектриків (15)
(14)*
Вуглець-вуглець Силіциди
Карбіди
"Композиційні" Тугоплавкі метали
матеріали (композити) з Суміші зазначених
керамічною та металевою матеріалів (4)
"матрицею" Шари діелектриків (15)
Алюмініди
Леговані алюмініди (2)
Цементований карбід Карбіди
вольфраму (16) Вольфрам
Карбід кремнію Суміші наведених раніше
матеріалів (4)
Шари діелектриків (15)
Молібден та його Шари діелектриків (15)
сплави
Берилій та його сплави Шари діелектриків (15)
Матеріали вікон Шари діелектриків (15)
датчиків (9)
B. Фізичне осадження з
парової фази
термовипаровуванням
(TE-PVD)
1. Фізичне осадження з "Суперсплави" Леговані силіциди
парової фази (PVD) Леговані алюмініди (2)
з випарюванням MCrALX(5)
електронним променем Модифіковані види діоксиду
(EB-PVD) цирконію (12)
Силіциди
Алюмініди
Суміші зазначених
матеріалів (4)
* Номери у дужках належать до приміток, зазначених після цієї
таблиці.
B.1. (продовження) Кераміка та скло з малим Шари діелектриків (15)
коефіцієнтом термічного
розширення (14)
Корозійностійка сталь MCrAlX (5)
(криця) (7) Модифіковані види діоксиду
цирконію (12)
Суміші зазначених
матеріалів (4)
Вуглець-вуглець Силіциди
"Композиційні" Карбіди
матеріали з керамічною Тугоплавкі метали
та металевою Суміші зазначених
"матрицею" матеріалів (4)
Шари діелектриків (15)
Цементований карбід Карбіди
вольфраму (16) Вольфрам
Карбід кремнію Суміші зазначених
матеріалів (4)
Шари діелектриків (15)
Молібден та його Шари діелектриків (15)
сплави
Берилій та його сплави Шари діелектриків (15)
Бориди
Матеріали вікон Шари діелектриків (15)
датчиків (9)
Титанові сплави (13) Бориди
Нітриди
B.2. Фізичне осадження з Кераміка та скло з Шари діелектриків (15)парової фази засобом малим коефіцієнтом
резистивного нагрівання термічного розширення
(іонне осадження (14)
(плакування)
Вуглець-вуглець Шари діелектриків (15)
"Композиційні"
матеріали з керамічною
та металевою
"матрицею"
Цементований карбід Шари діелектриків (15)
вольфраму (16)
Карбід кремнію
Молібден та його сплави Шари діелектриків (15)
Берилій та його сплави Шари діелектриків (15)
Матеріали вікон Шари діелектриків (15)
датчиків (9)
B.3. Фізичне осадження з Кераміка та скло з Силіциди
парової фази: малим коефіцієнтом Шари діелектриків (15)випарювання "лазерним" термічного розширення
променем (14)
Вуглець-вуглець Шари діелектриків (15)
"Композиційні"
матеріали з керамічною
та металевою
"матрицею"
Цементований карбід Шари діелектриків (15)
вольфраму (16)
Карбід кремнію
Молібден та його сплави Шари діелектриків (15)
Берилій та його сплави Шари діелектриків (15)
Матеріали вікон Шари діелектриків (15)
датчиків (9) Алмазоподібний вуглець
B.4. Фізичне осадження "Суперсплави" Леговані силіцидиз парової фази: Леговані аліомініди (2),
катодний дуговий MCrAlX (5)
розряд
Полімери (11) та Бориди
"Композиційні" Карбіди
матеріали з органічною Нітриди
"матрицею"
C. Пакова цементація Вуглець-вуглець Силіциди(твердофазне насищення) Кераміка та Карбіди
(див. "A") (10) "Композиційні" Суміші зазначенихматеріали з металевою матеріалів (4)
"матрицею"
Сплави титану (13) Силіциди
Алюмініди
Леговані алюмініди (2)
Тугоплавкі метали та Силіциди
сплави (8) Оксиди
D. Плазмове напилення "Суперсплави" MCrAlX (5)Модифікований діоксид
цирконію (12)
Суміші зазначених
матеріалів (4)
Ерозійностійкий
нікель-графіт
Ерозійностійкий нікель-
хром-алюміній-бентоніт
Ерозійностійкий алюміній-
кремній-поліестр
Леговані алюмініди (2)
Сплави алюмінію (6) MCrAlX (5)
Модифікований діоксид
цирконію (12)
Силіциди
Суміші зазначених
матеріалів (4)
Тугоплавкі метали та Алюмініди
сплави (8) Силіциди
Карбіди
Корозійностійкі сталі Модифікований діоксид
(7) цирконію (12)
Суміші зазначених
матеріалів (4)
Титанові сплави (13) Карбіди
Алюмініди
Силіциди
Леговані алюмініди (2)
Ерозійностійкий нікель-
графіт
Ерозійностійкий нікель-
хром-алюміній-бентоніт
діоксиду цирконію
Ерозійностійкий алюміній-
кремній-поліестр
E. Шликірні суспензійні Тугоплавкі метали Плавлені силіцидипокриття (осадження) Плавлені алюмініди
(8) (крім матеріалів для
нагрівних елементів)
Вуглець-вуглець Силіциди
"Композиційні" Карбіди
матеріали з керамічною Суміші зазначених матеріалів
та металевою "матрицею" (4)
F. Нанесення покриттів "Суперсплави" Леговані силіцидирозпиленням Леговані алюмініди (2)
Алюмініди модифіковані
благородними металами (3)
MCrAIX (5)
Види модифікованого
діоксиду цирконію (12)
Платина
Суміші зазначених матеріалів
(4)
Кераміка та скло з Силіциди
малим коефіцієнтом Платина
розширення (14) Суміші зазначених
матеріалів (4)
Шари діелектриків (15)
Титанові сплави (13) Бориди НітридиОксиди Силіциди
Алюмініди Карбіди
Леговані алюмініди (2)
Вуглець-вуглець Силіциди
"Композиційні" Карбіди
матеріали з керамічною Тугоплавкі метали
та металевою Суміші зазначених
"матрицею" матеріалів (4)
Шари діелектриків (15)
Цементований карбід Карбіди
вольфраму (16) Вольфрам
Карбід кремнію Суміші зазначених
матеріалів (4)
Шари діелектриків (15)
Молібден та його сплави Шари діелектриків (15)
Берилій та його Бориди
сплави Шари діелектриків (15)
Матеріали вікон Шари діелектриків (15)
датчиків (9)
Тугоплавкі метали та Алюмініди
сплави (8) Силіциди
Оксиди
Карбіди
G. Іонна імплантація Термостійкі Поверхневе легуванняшарикопідшипникові хромом,
сталі танталом або
ніобієм (комбієм)
Титанові сплави (13) Бориди
Нітриди
Берилій та його сплави Бориди
Цементований карбід Карбіди
вольфраму (16) Нітриди
* Розділ 2. ОБРОБЛЕННЯ МАТЕРІАЛІВ *
*******************************************************************
* Примітки до таблиці: Технічні методи осадження покриття *
*******************************************************************
1. Термін "процес покриття" включає як нанесення новогопокриття, так і ремонт та поновлення існуючого.
2. Термін "покриття легованими алюмінідами" включає
одностадійний або багатостадійний процесс нанесенняпокриттів, під час якого елемент або елементи осаджуються до
або під час одержання алюмінідного покриття, навіть якщо ці
елементи додаються за допомогою іншого процесу. Але він не
включає багаторазове використання одноступеневих процесів
пакової цементації для отримання покриттів на основілегованих алюмінідів.
3. Термін "покриття алюмінідами модифікованими благородними
металами" включає багатоступеневе нанесення покриття, в якому
благородний метал або благородні метали були нанесені раніше
будь-яким іншим способом до отримання покриття легованими
алюмінідами.
4. Суміші включають інфільтруючий матеріал, градієнтні
композиції, присадки та багатошарові матеріали івикористовуються під час одного або декількох процесів
отримання покриттів, зазначених у таблиці.
5. MCrAlX відповідає складному сплаву покриття, де "M" означає
кобальт, залізо, нікель або їх комбінації, а "X" означає
гафній, ітрій, кремній, тантал в будь-якій кількості, або
інші спеціально внесені додатки у кількості понад 0,01
вагового відсотка у різноманітних пропорціях та комбінаціях,
крім:
a. CoCrAlY - покриття, які мають менш як 22 вагових відсотки
хрому, менш як 7 вагових відсотків алюмінію та менш як 2
вагових відсотки ітрію; або
b. CoCrAlY - покриття, які мають 22 - 24 відсотки (за масою)
хрому, 10-12 вагових відсотків алюмінію та 0,5-0,7вагового відсотка ітрію; або
c. NiCrAlY- покриття, які мають 21 - 23 відсотки (за масою)
хрому, 10-12 вагових відсотків алюмінію та 0,9-1,1вагового відсотка ітрію.
6. Термін "сплави алюмінію" відповідає сплавам з граничним
значенням міцності на розрив 190 МПа або більше, виміряним
при температурі 293 К (20 град. С).
7. Термін "корозійностійка сталь" означає сталі,які
задовольняють вимоги стандарту серії 300 (AISI)
Американського інституту заліза та сталі або вимогивідповідних національних стандартів.
8. До тугоплавких металів належать такі метали та їх сплави:
ніобій (коламбій - в США), молібден, вольфрам і тантал.
9. Матеріалами вікон датчиків є: оксид алюмінію, кремній,
германій, сульфід цинку, селенід цинку, арсенід галію та такі
галогеніди металів: йодистий калій, фтористий калій, а для
вікон датчиків, які мають діаметр більш як 40 мм, бромистий
талій та хлоробромистий талій.
10. На "технологію" для одноступеневих процесів паковоїцементації суцільних лопаток турбін не поширюються обмеження
за розділом 2.
11. Полімери включають: поліімід, поліестр, полісульфід,полікарбонати та поліуретани.
12. Модифікований діоксид цирконію - діоксид цирконію здодаванням оксидів інших металів (таких як оксиди кальцію,
магнію, ітрію, гафнію, рідкоземельних металів) для
стабілізації відповідних кристалографічних фаз та фаз
зміщення. Термозахисні покриття діоксидом цирконію,модифіковані оксидом кальцію або оксидом магнію шляхом
змішування або розплаву, контролю не підлягають.
13. Під титановими сплавами маються иа увазі аерокосмічні сплави
з граничним значенням міцності на розрив 900 МПа або більше,
виміряним при температурі 293 К (20 град. С).
14. Скло з малим коефіцієнтом термічного розширення визначається
як скло, що має коефіцієнт температурного розширення 1 х 10 в
ступ. мінус 7 К в ступ. мінус 1 або менше, виміряний при
температурі 293 К (20 град. С).
15. Діелектричні шарові покриття належать до багатошаровихізоляційних матеріалів, у яких комбінація інтерференційних
властивостей матеріалів з різноманітними коефіцієнтами
рефракції використовуються для відбиття, передачі абопоглинання хвиль різноманітних діапазонів. До діелектричних
шарових покриттів належать ті, що складаються з чотирьох або
більше шарів діелектрика або шарових "композицій"діелектрик-метал.
16. До цементованого карбіду вольфраму не належатьінструментальні матеріали, які застосовуються для різання та
механічної обробки і які складаються з карбідувольфраму/(ко6альт-нікель), карбіду титану/(кобальт-нікель),
карбіду хрому/(нікель-хром) і карбіду хрому/(нікель).
Процеси, зазначені у графі "Найменування процесу нанесення
покриття" визначаються таким чином:
a. Хімічне осадження з газової фази (CVD) - це процес
нанесення зовнішнього покриття або покриття з модифікацією
поверхні, що покривається, в якому метал, сплав,
"композиційний" матеріал, діелектрик або керамікананосяться на нагріту підложку (основу). Газоподібні
реагенти розпадаються або сполучаються на поверхні виробу,
внаслідок чого на ній утворюються бажані елементи, сплави
або хімічні сполуки. Енергія для такого розпаду або
хімічної реакції може бути забезпечена за рахунок нагріву
підложки плазмовим розрядом або променем "лазера".
Особливі примітки:
1. Хімічне осадження з газової фази (CVD) включає такі
процеси: "безпакетне" нанесення покриття прямим газовим
струменем, газоциркуляційне хімічне осадження, кероване
зародження центрів конденсації при термічномуосадженні (CNTD) або хімічне осадження з газової фази
(CVD) з викориспанням плазми;
2. "Пакет" означає занурення основи (підложки) в суміш з
кількох складових;
3. Газоподібні реагенти, що використовуються убезпакетному процесі, отримуються за такими ж базовими
реакціями та параметрами, як і цементація, Крім того
випадку, коли підкложка, на яку наноситься покриття не
має контакту із сумішшю порошків.
b. Фізичне осадження з парової фази термовипарюванням(TE-PVD) - це процес зовнішнього покриття виробу у вакуумі
під тиском менш як 0,1 Па, коли джерело теплової енергії
використовується для перетворення на пару матеріалу, що
наноситься, внаслідок чого частки матеріалу, щовипаровується, конденсуються або осаджуються на відповідно
розташовану підложку.
Напуск газів у вакуумну камеру в процесі осадження для
створення складних покриттів є звичайною модифікацією
процесу.
Використання іонних або електронних променів або
плазми для активації або сприяння нанесенню покриття це
також звичайна модифікація цієї технології. Використання
моніторів для забезпечення вимірювання під час процесу
оптичних характеристик або товщини покриття може бути
характерною особливістю цих процесів.
Специфіка процесу TE-PVD за допомогою резистивного
нагріву полягає у тому, що:
1. При EB-PVD для нагрівання та випаровування
матеріалу, який формує покриття на виробі,використовується електронний промінь;
2. При PVD з резистивним нагрівом, яке здатне
забезпечити контрольований та рівномірний
(однорідний) потік пари матеріалу покриття,використовується електричний опір;
3. При випаровуванні "лазером" для нагріву матеріалу,
що формує покриття, використовується імпульсний або
безперервний "лазерний" промінь;
4. У процесі покриття за допомогою катодної дуги
використовується витрачуваний катод з матеріалу, що
формує покриття та створює розряд дуги на поверхні
катода після миттєвого контакту із заземленим
пусковим пристроєм (тригером). Контрольований рух
дуги призводить до ерозії поверхні катоду та
виникнення високоіонізованої плазми. Анод може бути
конічним та розташовуватись по периферії катоду
через ізолятор або сама камера може грати роль
аноду. Для нанесення покриття на підложку, що
розташована не на лінії, використовується зміщення
напруги.
Особлива Зазначений у підпункті 4 процес не стосується нанесення
примітка покриття довільною катодною дугою без зміщення напруги.
c. Іонне покриття - це спеціальна модифікація загального
TE-PVD процесу, в якому плазмове або іонне джерело
використовується для іонізації часток, які наносяться як
покриття, а негативне зміщення напруги прикладається до
підложки, що сприяє осадженню складових покриття з плазми.
Введення активних реагентів, випаровування твердихматеріалів в камері, а також використання моніторів, які
забезпечують вимірювання (в процесі нанесення покриття)
оптичних характеристик та товщини покриття, є звичайними
модифікаціями процесу;
d. Паковна цементація - це модифікація методу нанесення
покриття на поверхню або процес нанесення виключнозовнішнього покриття, коли підложка занурена в суміш
порошків (пак), яка складається з:
1. Металевих порошків, які входять до складу покриття
(звичайно алюміній, хром, кремній або їх комбінація);
2. Активатора (здебільшого галоїдна сіль); та
3. Інертної пудри, найчастіше - оксиду алюмінію.
Підложка та суміш порошків утримуються всередині
реторти, яка нагрівається до температури
від 1030 К (757
град. С) до 1375 К (1102 град. С) на час, який достатній
для нанесення покриття;
е. Плазмове напилення - це процес нанесення зовнішнього
покриття, коли плазмова гармата (пальник напилення), в
якій утворюється і керується плазма, використовує порошок
або дріт з матеріалу покриття, розплавляє їх та спрямовує
на підложки, де формується інтегрально зв'язане покриття.
Плазмове напилення може грунтуватися на напиленні плазмою
низького тиску або високошвидкісною плазмою під водою.
Особливі 1. Низький тиск - це тиск нижче атмосферного;
примітки
2. Високошвидкісна плазма визначається швидкістю газу
на зрізі сопла, що перевищує 750 м/с, розрахованої
при температурі 293 К (20 град. С) та тиску 0,1 Мпа.
f. Осадження із суспензії - це процес нанесення покриття з
модифікацією поверхні, що покривається, коли металевий або
керамічний порошок з органічною речовиною, що сполучає,
суспензовано в рідині та наноситься на підложку за
допомогою напилення, занурення або фарбування з наступним
повітряним або пічним сушінням та термічною обробкою для
одержання необхідних властивостей покриття;
g. Осадження розпиленням - це процес нанесення зовнішнього
покриття, який грунтується на феномені передачі кількості
руху, коли позитивні іони прискорюються в електричному
полі в напрямі до поверхні мішені (підложки виробу, що
покривається). Кінетична енергія ударів іонів достатня для
визволення атомів на поверхні мішені та їх осадження на
відповідно розташовану підложку;
Особливі 1. У таблиці наведені відомості тільки щодо тріодного,
примітки магнетронного або реактивного осадження розпиленням,
які застосовуються для збільшення адгезії матеріалу
покриття та швидкості його нанесення, а також щодо
радіочастотного підсилення напилення, якевикористовується під час нанесення пароутворюючих
неметалевих матеріалів для покриття.
2. Низькоенергетичні іонні промені (менше 5 КеВ) можуть
бути використані для прискорення (активації) процесу
нанесення покриття.
h. Іонна імплантація - це процес нанесення покриття з
модифікацією поверхні виробу, в якому легуючий елемент
іонізується, прискорюється системою з градієнтомпотенціалу та імплантується на поверхню підложки. До
процесів з іонною імплантацією належать і процеси, де
іонна імплантація здійснюється одночасно під час
електронно-променевого осадження або осадженнярозпилюванням.
* Розділ 2. ОБРОБЛЕННЯ МАТЕРІАЛІВ *
********************************************************************
* Технічна термінологія, що використовується *
* в таблиці технічних засобів осадження покриття *Мається на увазі, що технічна інформація стосовно таблиці
технічних засобів осадження покриття використовується у разі
потреби.
1. Спеціальна термінологія, яка застосовується в "технологіях"
для попереднього оброблення "підложок", зазначених у таблиці:
а. Параметри хімічного зняття покриття та очищення у ванні:
1. Склад розчину у ванні:
а. Для усунення старого та пошкодженого покриття,продуктів корозії або сторонніх відкладень;
b. Для приготування чистих підложок;
2. Час оброблення у ванні;
3. Температура у ванні;
4. Кількість та послідовність циклів миття;
b. Візуальні та макроскопічні критерії для
визначення
ступеня очищення або повноти очисної дози;
с. Параметри циклів термічного оброблення:
1. Атмосферні параметри:
а. Склад атмосфери;
b. Атмосферний тиск;
2. Температура термічної обробки;
3. Тривалість термічної обробки;
d. Параметри підготовки підложок:
1. Параметри піскоструминного очищення:
а. Склад часток;
b. Розмір та форма часток;
с. Швидкість подачі часток;
2. Час та послідовність циклів очищення післяпіскоструминного очищення;
3. Параметри кінцевого оброблення поверхні;
е. Технічні параметри маскування:
1. Матеріал маски:
2. Розміщення маски;
2. Спеціальна термінологія, що застосовується в "технологіях",
які забезпечують якість покриття, для засобів, зазначених у
таблиці:
а. Атмосферні параметри, наведені нижче:
1. Склад атмосфери;
2. Атмосферний тиск;
b. Часові параметри;
с. Температурні параметри;
d. Параметри товщини;
е. Коефіцієнт параметрів заломлення;
3. Спеціальна термінологія, що застосовується в "технологіях",
які використовуються після нанесення покриття на підложку,
зазначену в таблиці:
а. Параметри дробоструминної обробки:
1. Склад дробу;
2. Розмір дробу;
3. Швидкість подачі дробу;
b. Параметри очищення після обробки дробом;
с. Параметри циклу термічної обробки:
1. Атмосферні параметри:
а. Склад атмосфери;
b. Атмосферний тиск;
2. Температурно-часові цикли;
d. Візуальні та макроскопічні критерії під час приймання
покритих підложок;
4. Спеціальна термінологія, що застосовується в "технологіях" для
визначення технічних засобів, які гарантують якість покриття
підложок, зазначених в таблиці:
а. Критерії статистичного відбіркового контролю;
b. Мікроскопічні критерії для:
1. Збільшення;
2. Рівномірності товщини покриття;
3. Цілісності покриття;
4. Складу покриття;
5. Зчеплення покриття та підложки;
6. Мікроструктури однорідності;
с. Критерії для оцінки оптичних властивостей:
1. Відбивна властивість;
2. Прозорість;
3. Поглинання;
4. Розсіювання.
5. Спеціальна термінологія, що застосовується в "технологіях" та
параметрах, пов'язаних із специфічним покриттям та з процесами
видозмінювання поверхні, зазначеними в таблиці:
а. Для хімічного осадження з газової фази:
1. Склад та формування джерела покриття;
2. Склад несучого газу;
3. Температура підложки;
4. Температурно-часові цикли та цикли тиску;
5. Контроль газу та маніпулювання деталями;
b. Для термічного випарювання - фізичного осадження з парової
фази:
1. Склад зливка або джерела матеріалу покриття;
2. Температура підложки;
3. Склад активного газу;
4. Швидкість подачі зливків або швидкість випаровування
матеріалу;
5. Температурно-часові цикли та цикли тиску;
6. Маніпуляція променем та деталлю;
7. Параметри "лазера":
а. Довжина хвилі;
b. Щільність потужності;
с. Тривалість імпульсу;
d. Періодичність імпульсів;
е. Джерело;
f. Орієнтація підложки;
с. Для твердофазного осадження:
1. Склад обмазки та формування;
2. Склад несучого газу:
3. Температурно-часові цикли та цикли тиску;
d. Для плазмового напилення:
1. Склад порошку, підготовка та розподіл розмірів;
2. Склад та параметри газу, що подається;
3. Температура підложки;
4. Параметри потужності плазмової гармати;
5. Дистанція напилення;
6. Кут напилення;
7. Склад покривного газу, тиск та швидкість потоку;
8. Контроль за гарматою та маніпуляцією
деталями;
е. Для осадження розпиленням:
1. Склад та спосіб виробництва мішені;
2. Геометричне регулювання положення деталей та мішені;
3. Склад хімічно активного газу;
4. Високочастотне підмагнічування (електричне зміщення);
5. Температурно-часові цикли та цикли тиску;
6. Потужність тріода;
7. Маніпулювання деталлю;
f. Для іонної імплантації:
1. Контроль променю та маніпулювання деталлю;
2. Елементи конструкції джерела іонів;
3. Техніка контролю за іонним променем та параметрами
швидкості осадження;
4. Температурно-часові цикли та цикли тиску;
g. Для іонного покриття:
1. Контроль за променем та маніпулюванням деталлю;
2. Елементи конструкції джерела іонів;
3. Техніка контролю за іонним променем та параметрами
швидкості осадження;
4. Температурно-часові цикли та цикли тиску;
5. Швидкість подачі покривного матеріалу та швидкість
випаровування;
6. Температура підложки;
7. Параметри електричного зміщення підложки.
* Розділ 3. ЕЛЕКТРОНІКА *
**********************************************************************
*Номер * Найменування продукції * Код товару**пункту * * за ТН ЗЕД *
3. ЕЛЕКТРОНІКА
3.A. СИСТЕМИ, ОБЛАДНАННЯ І КОМПОНЕНТИ
Примітки 1. Статус контролю за обладнанням та
компонентами, зазначеними в пункті
3.A, що відрізняються від описаних
в пунктах 3.A.1.a.3 - 3.A.1.a.10
або 3.A.1.a.12, які спеціально
спроектовані або мають такіфункціональні характеристики, як і
інше обладнання, визначається
статусом контролю за іншимобладнанням.
2. Статус контролю за інтегральними
схемами, зазначеними в пунктах
3.A.1.a.3 - 3.A.1.a.9 або3.A.1.a.12, програми яких не можуть
бути змінені, або спроектовані для
виконання конкретних функцій для
іншого обладнання, визначається
статусом контролю за іншимобладнанням.
Особлива У разі коли виробник або заявник не
примітка може визначити статус контролю за іншим
обладнанням, цей статус визначається
статусом контролю за інтегральними
схемами, зазначеними в пунктах
3.A.1.a.3 - 3.A.1.a.9 або3.A.1.a.12.
Якщо ця інтегральна схема є
"мікросхемою мікрокомп'ютера" на
кремнієвій основі або мікросхемоюмікроконтролера, зазначеними в пункті
3.A.1.a.3 і має довжину слова операнда
8 біт або менше, тоді її статусконтролю визначається відповідно до
пункту 3.A.1.a.3.
3.A.1. Електронні компоненти, наведені нижче:
[3A001]
3.A.1.a. Інтегральні мікросхеми загальногопризначення, наведені нижче:
Примітки 1. Статус контролю за готовимипластинами або напівфабрикатами, на
яких відтворена конкретна функція,
визначається за параметрами,зазначеними у пункті 3.A.1.a.
2. Поняття "інтегральні схеми" включає
такі типи:
"монолітні інтегральні схеми";
"гібридні інтегральні схеми";
"багатокристалічні інтегральні
схеми";
"плівкові інтегральні схеми",включаючи інтегральні схеми типу
кремній на сапфірі;
"оптичні інтегральні схеми".
3.A.1.a. 1. Інтегральні схеми, спроектовані або з 854211
атестовані як радіаційно зміцнені з 854219
для того, щоб витримати будь-що з
наведеного нижче:
а. Загальну дозу - 5 х 10 в ступ. 3
рад (кремній) чи вище; або
b. Одиночну дозу - 5 х 10 в ступ. 6
рад (кремній) чи вище;
2. "Мікросхеми мікропроцесора", з 854211
"мікросхеми мікрокомп'ютера",
мікросхеми мікроконтролера,
інтегральні схеми пам'яті,
виготовлені із складного
напівпровідника, перетворювачі з
аналогової форми у цифрову,перетворювачі з цифрової форми в
аналогову, електрооптичні або
"оптичні інтегральні схеми",
призначені для "оброблення
сигналів", вентильні матриці зексплуатаційним програмуванням,
логічні матриці з експлуатаційним
програмуванням, інтегральні схеми
нейронної мережі, інтегральні схеми
на замовлення, для яких або невідома
функція, або стан контролюобладнання, у якому буде використана
інтегральна схема, невідомий,
процесори швидкого перетворенняФур'є (FFT), програмована постійна
пам'ять з електричним стиранням(EEPROMs), імпульсна пам'ять або
статична пам'ять з довільноювибіркою (SRAMs), які мають будь-яку
з наведених нижче характеристик:
a. Працездатні при температурінавколишнього природного
середовища понад 398 К (+125
град. C);
b. Працездатні при температурінавколишнього природного
середовища нижче 218 К (-55 град.
C); або
c. Працездатні за межами діапазону
температур навколишнього
природного середовища від 218 К
(-55 град. C) до 398 К (+125
град. C).
3. "Мікросхеми мікропроцесора",
"мікросхеми мікрокомп'ютера" і
мікросхеми мікроконтролерів, якімають одну з наведених нижче ознак:
Примітка За пунктом 3.A.1.a.2 контролю не
підлягають інтегральні схеми, щовикористовуються в цивільних
автомобілях або залізничнихлокомотивах.
Примітка У пункті 3.A.1.a.3 зазначено цифровісигнальні процесори, цифрові матричні
процесори і цифрові співпроцесори.
a. "Сукупна теоретична продуктивність" 854211870
("СТР") 260 мільйонів теоретичних
операцій за секунду (Мегатопсів) або
більше та математичні співпроцесори
з шиною даних 32 біта або більше;
3.A.1.a. 3.b. Виготовлені з композиційного з 8542напівпровідника та які працюють з
тактовою частотою понад 40 Мгц;
або
c. Більше ніж з однією шиною даних 854211760
або контролю чи з послідовним 854211550
комунікаційним портом для 854211720
зовнішнього з'єднування впаралельному процесі
із швидкістю
передачі, що перевищує 2,5Мбайта/с;
4. Інтегральні схеми пам'яті,
виготовлені на основінапівпровідникових з'єднань.
5. Інтегральні схеми аналого-цифрових з 854211,
та цифро-аналогових перетворювачів, 854220
наведені нижче:
a. Аналого-цифрові перетворювачі,
які мають одну з таких ознак:
1. Розрядність 8 біт або більше,
але менш як 12 біт з повним
часом перетворення домаксимальної розрядності менш
як 10 нс;
2. Розрядність 12 біт та повний
час перетворення домаксимальної розрядності менш
як 200 нс;
або
3. Розрядність понад 12 біт з
повним часом перетворення до
максимальної розрядності менш
як 2 мкс;
b. Цифро-аналогові перетворювачі з
розрядністю 12 біт або більше та
"часом установлювання" менш як 10
нс.
6. Електронно-оптичні або "оптичні з 854219інтегральні схеми" для "оброблення
сигналів", які мають усі наведені
нижче ознаки:
a. Один внутрішній "лазерний" діод
або більше;
b. Один внутрішній світлочутливий
елемент або більше; та
c. Оптичні хвильоводи;
7. Програмовані у користувача матриці 854211300
логічних елементів, які мають одну з
наведених нижче характеристик:
a. Еквівалентна кількість вентилів
понад 30000 (в переліку надвовходові); або
b. Типовий "час затримкирозповсюдження базового логічного
елементу" менш як 0,4 нс;
8. Програмовані у користувача матриці 854211910
логічних елементів, які мають одну з
наведених нижче характеристик:
a. Еквівалентна кількість вентилів
понад 30000 (в переліку надвовходові);
b. Частота перемикання перевищує 133
МГц;
9. Інтегральні схеми для нейронних з 854219мереж;
3.A.1.a. 10. Інтегральні схеми на замовлення, для з 854219
яких функція призначення невідома,
або контрольний статус обладнання, в
якому будуть використовуватися
інтегральні схеми, невідомі
виробнику, які мають одну знаведених нижче характеристик:
a. Кількість виводів понад 208;
b. Типовий "час затримкирозповсюдження базового логічного
елементу" менш як 0,35 нс; або
c. Робоча частота понад 3 ГГц;
11. Цифрові інтегральні схеми, що 854211990
відрізняються від зазначених упунктах 3.A.1.a.3 - 3.A.1.a.10 та
3.A.1.a.12, які створені на основі
будь-якого складного напівпровідника
і мають одну з наведених нижче
характеристик:
а. Еквівалентна кількість вентилів
понад 300 (у перерахунку надвовходові); або
b. Частота перемикання понад 1,2
ГГц;
12. Процесори швидкісного перетворення з 8542, 8543
Фур'є (FFT), які мають одну
з
наведених нижче ознак:
a. Розрахунковий час виконаннякомплексного 1024 - позначкового
FFT менш як 1 мс;
b. Розрахунковий час виконаннякомплексного N-позначкового
складного FFT, відмінного від
1024 - позначкового, менш як N
log2 N/10240 мс, де N -кількість позначок; або
c. Продуктивність алгоритму
"метелик" понад 5,12 МГц.
3.A.1.b. Прилади мікрохвильового та
міліметрового діапазону, наведенінижче:
1. Електронні вакуумні лампи та катоди,
наведені нижче:
Примітка За пунктом 3.A.1.b.1 контролю непідлягають лампи, призначені для роботи
у стандартному діапазоні частот
Міжнародного союзу електрозв'язку(ITU), які не перевищують 31 ГГц.
a. Лампи біжучої хвилі імпульсної 854049000
або безперервної дії, наведені
нижче:
1. Які працюють на частотах понад 31
ГГц;
2. Які мають елемент підігрівукатоду з часом від включення до
виходу лампи на номінальнурадіочастотну потужність менш як
3 с;
3. Із сполученими резонаторами або
їх модифікаціями зі "смугоюпропускання" понад 7 відсотків
або з піковою потужністю понад
2,5 кВт;
3.A.1.b. 1.a.4. Із спіраллю або її модифікацією,
які мають одну з наведених нижче
ознак:
a. "Смуга пропускання" понад 1
октаву і добуток номінальної
середньої вихідної потужності
(в кіловатах) на максимальну
робочу частоту (в ГГц)перевищує 0,5;
b. "Смуга пропускання" дорівнює 1
октаві або менше, добутокномінальної середньої вихідної
потужності (в кіловатах) на
максимальну робочу частоту (в
ГГц) перевищує 1; або
c. За технічними умовами"придатні для використання в
космосі";
b. НВЧ-прилади - підсилювачі 854041000
магнетронного типу з коефіцієнтом
підсилення понад 17 дБ;
c. Інтегровані катоди для електронних 854049000
ламп, які мають одну з наведених
нижче ознак:
1. Час від вмикання до виходу на
номінальну емісію менш як 3 с;
або
2. "Сумарна густина струму" при
безперервній емісії та штатних
умовах функціонування більш як 5
А/кв. см;
2. Інтегральні схеми або модулі 854049000
мікрохвильового діапазону, які
містять "монолітні інтегральнісхеми" і працюють на частотах понад
3 ГГц;
Примітка За пунктом 3.A.1.b.2 контролю не
підлягають схеми та модулі дляустаткування, розробленого для роботи в
стандартному діапазоні частот
Міжнародного союзу електрозв'язку(ITU), які не перевищують 31 ГГц.
3. Мікрохвильові транзистори, 854049000
призначені для роботи на частотах,
що перевищують 31 ГГц;
4. Мікрохвильові
твердотілі 854049000
підсилювачі, які:
a. Працюють на частотах понад 10,5
ГГц і мають "смугу пропускання"
понад півоктави; або
b. Працюють на частотах понад 31
ГГц;
5. Смугові або загороджувальні фільтри 854049000
з електронним чи магнітнимналагодженням, які мають понад 5
налагоджувальних резонаторів, щозабезпечують налагодження в смузі
частот з відношенням максимальної та
мінімальної частот 1,5 : 1 менш як
за 10 мкс і мають одну з наведених
нижче ознак:
a. Смуга частот пропускання
становить понад 0,5 відсоткарезонансної частоти; або
b. Смуга заглушення становить менш
як 0,5 відсотка резонансноїчастоти;
3.A.1.b. 6. Мікрохвильові блоки, здатні 854049000
працювати на частотах, щоперевищують 31 ГГц;
7. Змішувачі та перетворювачі,
спроектовані для розширення
діапазону частоти обладнання,
зазначеного в пунктах 3.A.2.c,3.A.2.e або 3.A.2.f, та виходять
за межі, описані в них.
8. Мікрохвильові підсилювачі
потужності, які містять вузли, що
підлягають контролю за пунктом3.A.1.b, і мають наведені нижче
характеристики:
a. Операційні частоти понад 3 ГГц;
b. Середня щільність вихідної
потужності, яка перевищує 80Вт/кг; та
c. Об'єм менш як 400 куб. см.
Примітка За пунктом 3.A.1.b.8 контролю непідлягає обладнання, розроблене або
придатне для роботи на стандартних
частотах Міжнародного союзуелектрозв'язку (ITU).
3.A.1.c. Прилади на акустичних хвилях, наведені
нижче, та спеціально спроектовані для
них компоненти:
1. Прилади на поверхневих акустичних 854160000
хвилях і акустичних хвилях у тонкій
"підложці" (тобто прилади для
"оброблення сигналів", що
використовують пружні хвилі в
матеріалі), які мають одну знаведених нижче ознак:
a. Несуча частота перевищує 2,5 ГГц;
b. Несуча частота перевищує 1 ГГц,
але не більше 2,5 ГГц, і мають
одну з наведених нижче ознак:
1. Частотне заглушення бокових
пелюстків діаграми напрямкуперевищує 55 дБ;
2. Добуток максимального часузатримки (в мкс) і "миттєвої
ширини смуги частот" (в МГц)
понад 100;
3. "Миттєва ширина смуги частот"
понад 250 МГц; або
4. Затримка поширення перевищує 10
мкс; або
c. Несуча частота, яка дорівнює 1
ГГц або менше і має одну з
наведених нижче характеристик:
1. Добуток максимального часузатримки (в мкс) і "миттєвої
ширини смуги частот" (в МГц)
понад 100;
2. Затримка поширення перевищує
10 мкс; або
3. Частотне заглушення бокових
пелюстків діаграми напрямку
перевищує 55 дБ та ширина
смуги частот понад 50 МГц;
3.A.1.c. 2. Прилади на об'ємних акустичних 854160000
хвилях (тобто прилади для
"оброблення сигналів", які
використовують пружні хвилі вматеріалі), забезпечують
безпосереднє "оброблення сигналів"
на частотах понад 1 ГГц;
3. Акустооптичні прилади "оброблення 854160000
сигналів", які використовуютьвзаємодію між акустичними хвилями
(об'ємними чи поверхневими) ісвітловими хвилями, що забезпечує
безпосереднє "оброблення сигналів"
або зображення, включаючи аналіз
спектра, кореляцію або згортку;
3.A.1.d. Електронні прилади або схеми, які 854280000
містять елементи, виготовлені з"надпровідних" матеріалів, спеціально
спроектовані для роботи при
температурах нижчих від "критичної
температури" хоча б для однієї з"надпровідних" складових і мають одну з
наведених нижче ознак:
1. Наявність електромагнітного
підсилення:
a. На частотах, що дорівнюють або
нижче ніж 31 ГГц, з рівнем шумів
нижче 0,5 дБ, або
b. На частотах понад 31 ГГц;
2. Наявність струмових перемикачів для
цифрових схем, які використовують
"надпровідні" вентилі, де добуток
часу затримки на вентиль (усекундах) і розсіювання потужності
на вентиль (у ватах) нижче ніж 10 в
ступ. мінус 14 Дж; або
3. Забезпечення селекції частоти на
всіх діапазонах частот звикористанням резонансних контурів з
добротністю понад 10000;
3.A.1.e. Прилади високої енергії, наведенінижче:
1. Батареї та фотоелектричні батареї,
наведені нижче:
Примітка. За пунктом 3.A.1.e.1 контролю непідлягають батареї об'ємом 27 куб. см і
менше (наприклад, стандартні вугільні
елементи або батареї R14).
a. Первинні елементи і батареї з 850619900щільністю енергії понад 480 Вт х
год/кг, за технічними умовамипридатні для робити в діапазоні
температур від 243 К (-30 град. C) і
нижче до 343 К (+70 град. C) і
вище;
b. Підзаряджувальні елементни і батареї 850619900
з щільністю енергії понад 150 Вт/кг
після 75 циклів заряду-розряду при
струмі розряду, що дорівнює С/5 год.
(тут С - номінальна ємність вампер-годинах), під час роботи в
діапазоні температур від 253 К (-20
град. C) і нижче до 333 К (+60 град.
C) і вище;
Технічна Щільність енергії розраховуєтьсяпримітка множенням середньої потужності у ватах
(добуток середньої напруги у вольтах і
середнього струму в амперах) натривалість циклу розрядження в годинах,
при якому напруга на розімкнутих клемах
падає до 75 відсотків номіналу, і
діленням цього добутку на загальну масу
елемента (чи батареї) в кілограмах.
3.A.1.e. 1.c. Батареї, за технічними умовами 850619900
"придатні для використання в
космосі" та радіаційно стійкі
батареї на фотоелектричнихелементах з питомою потужністю
понад 160 Вт/кв. м при робочій
температурі 301 К (+ 28° C) і
вольфрамовому джерелі, яке нагріте
до 2800 К (+ 2527° C) і створює
енергетичну освітленість 1 кВт/кв.м;
2. Накопичувачі великої енергії,наведені нижче:
а. Накопичувачі енергії з частотою 850619900
повторення менш як 10 Гц 850780900
(одноразові накопичувачі), щомають усе наведене нижче:
1. Номінальну напругу не менш як
5 кВ;
2. Густину енергії не менш як 250
Дж/кг; та
3. Загальну енергію не менш як 25
кДж;
b. Накопичувачі енергії з частотою 850619900
повторення 10 Гц і більше 850780900(багаторазові накопичувачі), які
мають усе наведене нижче:
1. Номінальну напругу не менш як
5 кВ,
2. Щільність енергії не менш як
50 Дж/кг;
3. Загальну енергію не менш як
100 Дж; та
4. Кількість циклів
заряду-розряду не менше 10000;
3. "Надпровідні" електромагніти та 850519900соленоїди, спеціально спроектовані
на повний заряд або розряд менше,
ніж за 1 секунду, які мають усе,
наведене нижче:
Примітка За пунктом 3.A.1.e.3 контролю непідлягають "надпровідні" електромагніти
або соленоїди, спеціально спроектовані
для медичної апаратуримагніторезонансної томографії (MRI).
a. Максимальну енергію під час розряду,
що перевищує 10 кДж за першусекунду;
b. Внутрішній діаметр струмопровідних
обмоток понад 250 мм; та
c. Номінальну магнітну індукцію понад 8
Т або "сумарну густину струму" в
обмотці понад 300 А/кв. мм;
3.A.1.f. Обертові перетворювачі абсолютного 903180310кутового положення вала в код, які
мають усе наведене нижче:
1. Роздільність краще 1/265000 відповного діапазону (18 біт); або
2. Точність краще ніж +-2,5 кут/секунду.
3.A.2. Електронна апаратура загального[3A002] призначення, наведена нижче:
3.A.2.a. Записувальна апаратура, наведена нижче,
і спеціально призначена для неївимірювальна стрічка:
1. Накопичувачі на магнітній плівці для 852039900
аналогової апаратури, включаючинакопичувачі з можливістю запису
цифрових сигналів (тобто, що
використовують модуль цифровогозапису високої щільності (HDDR)),
які мають одну з наведених нижче
ознак:
a. Смуга частот перевищує 4МГц на
електронний канал або доріжку;
b. Смуга частот перевищує 2 МГц на
електронний канал або доріжку при
кількості доріжок понад 42; або
c. Помилка непогодження змінноїшкали, виміряна із застосуванням
документів Асоціації електронної
промисловості (ЕIА) або IRIG,
менше +- 0,1 мкс;
Примітка Аналогові магнітофони, спеціальностворені для цілей цивільного відео, не
вважаються накопичувачами на плівці.
2. Цифрові
відеомагнітофони, які мають з 852110
максимальну роздільну здатність 852190000
цифрового інтерфейсу понад 180Мбіт/с;
Примітка За пунктом 3.A.2.a.2 контролю непідлягають цифрові відеомагнітофони,
спеціально спроектовані длятелевізійного запису за стандартами або
рекомендаціями Міжнародного союзуелектрозв'язку (ITU) або Міжнародної
електротехнічної комісії (IEC) дляцивільного телебачення.
3. Накопичувачі на магнітній плівці для з 852110
цифрової апаратури, що використовує
методи спірального сканування або
фіксованих магнітних головок, які
мають одну з наведених нижче ознак:
a. Максимальна пропускна здатність
цифрового інтерфейсу понад 175
Мбіт/с; або
b. За технічними умовами "придатні
для використання в космосі";
Примітка За пунктом 3.A.1.a.3 контролю непідлягають аналогові накопичувачі на
магнітній плівці, оснащені електронікою
для перетворення в цифровий записвисокої щільності (HDDR) та призначені
для запису тільки цифрових даних.
3.A.2.a. 4. Апаратура з максимальною пропускною 852190000
здатністю цифрового інтерфейсу понад
175 Мбіт/с, призначена дляперетворення цифрових
відеомагнітофонів у пристрої запису
даних цифрової апаратури;
5. Цифрові перетворювачі форми хвилі та з 8543
передні реєстратори, які мають усі
наведені нижче ознаки:
a. Швидкість цифрового перетворення,
що дорівнює або вища, ніж 200
млн. операцій за секунду нарозрядність 10 біт або більше;
та
b. Безперервна пропускна здатність 2
Гбіт/с і більше;
Технічна Для цих приладів з паралельною шиною
примітка швидкість безперервної пропускноїздатності є добуток найбільшого обсягу
слів на кількість біт у слові.Безперервна пропускна здатність - це
найвища швидкість, з якою прилад може
виводити дані в накопичувач без втрати
інформації, водночас підтримуючи
швидкість вимірювання та функціюаналого-цифрового перетворення.
3.A.2.b. "Електронні збірки" "синтезаторів 854380900частоти", які мають "час перемикання
частоти" з однієї на іншу менш як 1
мс;
3.A.2.c. "Аналізатори сигналів", наведені нижче: 854380900
1. "Аналізатори сигналів", здатніаналізувати частоти, що перевищують
31 ГГц;
2. "Динамічні аналізатори сигналів" із
"смугою пропускання в реальному
масштабі часу" понад 25,6 кГц.
Примітка За пунктом 3.A.2.c.3 контролю не
підлягають "динамічні аналізаторисигналів", які використовують тільки
фільтри із смугою пропусканняфіксованих часток.
Фільтри із смугою пропусканняфільтрованих часток, відомі також під
назвою октавних або фракційних октавних
фільтрів.
3.A.2.d. Генератори сигналів синтезаторів 854320000частот, які формують вихідні частоти з
керуванням за параметрами точності,
короткочасної та довгочасної
стабільності, на основі або задопомогою
внутрішньої еталонної частоти
і мають одну з наведених нижче ознак:
1. Максимальна синтезована частотаперевищує 31 ГГц;
2. "Час перемикання частоти" з однієї
заданої частоти на іншу менш як 1
мс; або
3. Фазовий шум однієї бокової смуги
(SSB) краще - (126 + 20 log10 F - 20
log10f) в одиницях дБ/Гц, де F -
відхилення робочої частоти в Гц, а f
- робоча частота в МГц;
Примітка За пунктом 3.A.2.d контролю непідлягає обладнання, в якому вихідна
частота створюється шляхом додавання
або віднімання частот з двох і більше
кварцових генераторів чи шляхомдодавання або віднімання з наступним
множенням результуючої частоти.
3.A.2.e. Мережеві аналізатори з максимальною 854380900робочою частотою, яка перевищує 40 ГГц;
3.A.2.f. Приймачі-тестери мікрохвильового 852790990діапазону, які мають усі наведені нижче
характеристики:
1. Максимальну робочу частоту понад 40
ГГц; та
2. Здатні одночасно вимірюватиамплітуду та фазу;
3.A.2.g. Атомні еталони частоти, які мають одну 854320000
з наведених нижче ознак:
1. Довготривала стабільність (старіння)
менше (краще) 1 х 10 в ступ. мінус
11 /місяць; або
2. За технічними умовами "придатні для
використання в космосі".
Примітка За пунктом 3.A.2.g.1 контролю не
підлягають рубідієві еталони,
не-"придатні для використання вкосмосі".
3.B. ОБЛАДНАННЯ ДЛЯ ВИПРОБУВАННЯ,
КОНТРОЛЮ І ВИРОБНИЦТВА
3.B.1. Обладнання для виробництва
[3B001] напівпровідникових приладів або
матеріалів, наведене нижче, і
спеціально створені компоненти таоснащення для них:
3.B.1.a. Обладнання для епітаксійноговирощування, наведене нижче, "кероване
вмонтованою програмою":
3.B.1.a. 1. Обладнання для епітаксійного 841989900
вирощування, здатне витримувати
товщину епітаксійного шару звідхиленням не більш як 2,5 відсотка
на відстані вздовж пластини 75 мм
або більше;
2. Обладнання хімічного осадження з 841989900
металоорганічної парової фази(MOCVD), спеціально розроблене для
вирощування кристалів складних
напівпровідників за допомогоюхімічних реакцій між матеріалами,
зазначених у пунктах 3.C.3 або
3.C.4;
3. Молекулярно-променеве обладнання 841780100
епітаксійного вирощування, в якому
застосовані газові джерела;
3.B.1.b. Обладнання, "кероване вмонтованою 845610000програмою", для іонної імплантації, яке
має одну з наведених нижче ознак:
1. Прискорювальна напруга, якаперевищує 200 кеВ;
2. Спеціально спроектоване таоптимізоване для функціонування при
прискорювальній напрузі менш як 10
кеВ;
3. Здатне до безпосереднього запису;
або
4. Здатне до високоенергетичної
імплантації кисню в нагріту"підложку" напівпровідникового
матеріалу.
3.B.1.c. Обладнання, наведене нижче, для сухого 845690000
травлення
з використанням анізотропної
плазми, "кероване вмонтованоюпрограмою":
1. З покасетним обробленням пластин та
завантаженням їх череззавантажувальні шлюзи, які мають
одну з наведених нижчехарактеристик:
a. Магнітний захист: або
b. Електронний циклотронний резонанс
(ECR);
2. Обладнання, спеціально спроектоване
для устаткування, яке підлягаєконтролю за пунктом 3.B.1.e та має
одну з наведених нижчехарактеристик:
a. Магнітний захист; або
b. Електронний циклотронний
резонанс.
3.B.1.d. Обладнання, "кероване вмонтованою 845690000програмою", для хімічного осадження з
парової фази (CDV) та плазмовоїстимуляції, наведене нижче:
1. З покасетним обробленням пластин і
подачею їх через завантажувальні
шлюзи, які мають одну з наведених
нижче ознак:
a. Магнітний захист; або
b. Електронний циклотронний
резонанс;
3.B.1.d. 2. Обладнання, що спроектоване дляапаратури, яке підлягає контролю за
пунктом 3.B.1.e та має будь-яку з
наведених нижче характеристик:
a. Магнітний захист; або
b. Електронний циклотронний
резонанс;
3.B.1.e. Багатокамерний центр оброблення 845610000
напівпровідникових пластин з 845690000автоматичним завантаженням, "керований
вмонтованою програмою", який має усі
наведені нижче ознаки:
1. Інтерфейси для завантаження та
вивантаження пластин, до якогоповинно бути приєднано понад два
пристрої технологічного оброблення
напівпровідників; та
2. Призначене для комплексної системи
послідовного багатопозиційного
оброблення пластин у вакуумі.
Примітка За пунктом 3.B.1.e контролю непідлягають автоматичні робототехнічні
системи завантаження пластин, непризначених для роботи у вакуумі.
3.B.1.f. Обладнання літографії, "кероване 900922900
вмонтованою програмою", наведененижче:
1. Обладнання багаторазового суміщення
та експонування для обробленняпластин методами фотооптичної або
рентгенівської літографії, яке має
будь-яку з наведених нижчехарактеристик:
a. Наявність джерела освітлення з
довжиною хвилі коротшою ніж 400
нм; або
b. Спроможність виробляти зразки з
мінімально визначеним типовимрозміром 0,7 мкм або менше;
Примітка Мінімальний визначений типовий розмір
можна розрахувати за рівнянням:
(довжина хвилі випромінювання світла в мк) х (К фактор)
MRF = -------------------------------------------------------
цифрова апертура
де К фактор = 0,7, а MRF - мінімальний
визначений типовий розмір.
3.B.1.f. 2. Обладнання, спеціально призначене 845610000
для виробництва шаблонів абооброблення напівпровідникових
приладів з використанням
сфокусованого електронного пучка, що
відхиляється, іонного пучка або
"лазерного" пучка, які мають
будь-яку з наведених нижчехарактеристик:
3.B.1.f. 2.a. Розмір плями менш як 0,2 мкм;
b. Здатність виробляти малюнок з
мінімальними дозволеними
проектними нормами менш як 1 мкм;
або
c. Точність суміщення краще +- 0,2
мкм (3 сигма);
3.B.1.g. Шаблони (маски) або фотошаблони для 901090000
інтегральних схем, що підлягаютьконтролю за пунктом 3.A.1;
3.B.1.h. Багатошарові шаблони (маски) з 901090000фазозсувним шаром.
3.B.2. Обладнання для випробувань, "кероване 903180390
[3B002] вмонтованою програмою", спеціально
призначене для випробувань готових
(оброблених) або напівфабрикатних(необроблених) напівпровідникових
приладів, наведене нижче, і спеціально
створені компоненти та аксесуари до
нього:
3.B.2.a. Для вимірювання S-параметрів
транзисторних приладів на частотахпонад 31 ГГц;
3.B.2.b. Для випробувань інтегральних мікросхем
та їх збірок, здатне виконуватифункціональне тестування (за таблицями
істинності) з частотою тестуваннярядків понад 60 МГц;
Примітка За пунктом 3.B.2.b контролю не
підлягає апаратура, спеціальнопризначена для випробувань:
1. "Електронних збірок" або класу"електронних збірок" для побутової
або ігрової електронної апаратури;
2. Електронних компонентів,
"електронних збірок" абоінтегральних схем, які не підлягають
експортному контролю.
3.B.2.c. Для випробувань мікрохвильових
інтегральних схем на частотах, щоперевищують 3 ГГц;
Примітка За пунктом 3.B.2.c контролю не
підлягає обладнання, спеціально
спроектоване для випробуваньмікрохвильових інтегральних схем для
устаткування, за технічними умовами
призначеного або придатного для роботи
в стандартному діапазоні Міжнародного
союзу електрозв'язку (ITU) на частотах,
які не перевищують 31 ГГц.
3.B.2.d. Електронно-променеві системи,
спроектовані для функціонування зенергією 3 кеВ або нижче, або "лазерні"
променеві системи для безконтактного
зондування заживлених
напівпровідникових приладів, які мають
будь-яку з наведених нижчехарактеристик:
1. Стробоскопічний режим із затіненням
променя або з детекторнимстробуванням; та
2. Електронний спектрометр длявимірювання напруги менш як 0,5 В.
Примітка За пунктом 3.B.2.d контролю не
підлягають скануючі електроннімікроскопи, крім спеціально призначених
та оснащених для безконтактногозондування заживлених
напівпровідникових приладів.
3.C. МАТЕРІАЛИ
3.C.1. Гетероепітаксійні матеріали, які 381800900[3C001] складаються з "підложки" та кількох
послідовно нанесених епітаксійнихшарів, які мають будь-яку з наведених
нижче складових:
a. Кремній;
b. Германій; або
c. Сполуки III/V на основі галію або
індію.
Примітка Сполуки
III/V - це полікристалічні,
подвійні або складні монокристалічні
продукти, складені з елементів IIIA-
(A3) та VA (В5) груп періодичної
системи елементів Менделеєва
(наприклад, арсенід галію, арсенідгалію-алюмінію, фосфід індію тощо).
3.C.2. Матеріали резистів і "підложки",[3C002] наведені нижче, покриті резистами, що
підлягають контролю:
3.C.2.a. Позитивні резисти, призначені для 854140990напівпровідникової літографії,
спеціально пристосовані длявикористання з довжиною хвилі менш як
370 нм;
3.C.2.b. Усі резисти, призначені для 854140990
використання під час експонуванняелектронними та іонними пучками, з
чутливістю 0,01 мкКл/кв. мм або краще;
3.C.2.c. Усі резисти, призначені для 854140990
використання під час експонуваннярентгенівськими променями, з чутливістю
2,5 мДж/кв. мм або краще;
3.C.2.d. Усі резисти, оптимізовані під 854140990
технології формування малюнка,включаючи силіційовані резисти.
Примітка Методи силіціювання - це процеси, які
включають оксидування поверхні резисту
для підвищення якості мокрого та сухого
проявлення.
3.C.3. Органо-неорганічні сполуки, наведені[3C003] нижче:
3.C.3.a. Металоорганічні сполуки на основі 293100900алюмінію, галію чи індію, які мають
чистоту металевої основи понад 99,999
відсотків;
3.C.3.b. Органо-миш'яковисті, органо-сурм'янисті 293100900
та органо-фосфорні сполуки, які мають
чистоту основи неорганічного елемента
понад 99,999 відсотків.
Примітка За пунктом 3.C.3 підлягають контролютільки ті сполуки, металеві, частково
металеві або неметалеві елементи яких
безпосередньо пов'язані з вуглецем
органічної частки молекули.
3.C.4. Гідриди фосфору, миш'яку чи сурми, які 284890000
[3C004] мають чистоту понад 99,999 відсотків 285000100
навіть після розведення інертнимигазами або воднем.
Примітка За пунктом 3.C.4 контролю не
підлягають гідриди, що містять 20відсотків або більше молей інертних
газів чи водню.
3.D. ПРОГРАМНЕ ЗАБЕЗПЕЧЕННЯ
3.D.1. "Програмне забезпечення", спеціально з 8524
[3D001] створене для "розроблення" або"виробництва" обладнання, що підлягає
контролю за пунктами 3.A.1.b -3.A.1.g або 3.B.
3.D.2. "Програмне забезпечення", спеціально з 8524
[3D002] створене для "використання" в
обладнанні, "керованому вмонтованоюпрограмою", що підлягає контролю за
пунктом 3.B.
3.D.3. "Програмне забезпечення" для систем з 8524
[3D003] автоматизованого проектування (CAD),
створене для напівпровідниковихприладів або інтегральних схем, які
мають одну з наведених нижче ознак:
3.D.3.a. Правила проектування або правилаперевірки (верифікації) схем:
3.D.3.b. Моделювання схем за їх фізичноютопологією; або
3.D.3.c. Імітатори літографічних процесів для
проектування.
Технічна Імітатор літографічних процесів - це
примітка пакет "програмного забезпечення", який
використовується на етапі проектування
для визначення послідовності операцій
літографії, травлення та
осадження з
метою втілення маскувальних шаблонів у
конкретні топологічні малюнки
провідників, діелектриків абонапівпровідникового матеріалу.
Примітка За пунктом 3.D.3 контролю не підлягає
"програмне забезпечення", спеціально
створене для опису принципових схем,
логічного моделювання, розкладення або
маршрутизації, перевірки топології або
розмноження шаблонів.
Особлива Бібліотеки, проектні атрибути або
примітка супутні дані для проектування
напівпровідникових приладів чи
інтегральних схем розглядаються як"технологія".
3.E. ТЕХНОЛОГІЯ
3.Е.1. "Технологія" відповідно до пункту 3 з 3705,
[3E001] загальних приміток для "розроблення" 3706, 8524,
або "виробництва" обладнання або 490199000матеріалів, що підлягають контролю за 490600000
пунктами 3.A, 3.B або 3.C.
Примітки 1. Код "технології" за ТН ЗЕДвизначається кодом носія, на якому
вона передається.
2. За пунктом 3.E.1 контролю не
підлягає "технологія" для"розроблення" або "виробництва":
a. Мікрохвильових транзисторів, що
працюють на частотах нижче ніж 31
ГГц;
b. Інтегральних схем, що підлягають
контролю за пунктами 3.A.1.a.3 -
3.A.1.a.12 і мають усі наведені
нижче ознаки:
1. Використовують "технології" 1
мкм або вище; та
2. Не містять багатошаровихструктур.
Особлива Термін "багатошарові структури" упримітка підпункті b.2 примітки 2 не включає
прилади, які містять максимум два шари
металу та два шари полікремнію.
3.E.2. Інші "технології" для "розроблення" з 3705,
[3E002] або "виробництва": 3706, 8524,
3.E.2.a. Вакуумних мікроелектронних приладів; 490199000490600000
3.E.2.b. Напівпровідникових приладів нагетероструктурах, таких як транзистори
з високою рухомістю електронів (НЕМТ),
біполярні транзистори на
гетероструктурі (НВТ), приладів з
квантовими ямами або приладів нанадрешітках;
3.E.2.c. "Надпровідних" електронних приладів;
3.E.2.d. "Підложки" плівок алмазу дляелектронних компонентів.
* Розділ 4. КОМП'ЮТЕРИ *
******************************************************************
* Номер * Найменування продукції * Код товару *
* пункту * * за ТН ЗЕД *4. КОМП'ЮТЕРИ
Примітки 1. Комп'ютери, супутнє обладнання та
"програмне забезпечення", щовикористовуються в мережах зв'язку
або в "локальних мережах",підлягають контролю з урахуванням
критеріїв, зазначених у частині 1
розділу 5 (Зв'язок).
2. Комп'ютери, супутнє обладнання та
"програмне забезпечення", що
виконують функції криптографії,
криптоаналізу або інших видівзахисту інформації у мережах зв'язку
або в обчислювальних мережах, або
такі, що обмежують
електромагнітну
сумісність (ЕМС), підлягаютьконтролю з урахуванням критеріїв,
зазначених у частині 2 розділу 5
(Захист інформації).
Особливі 1. Блоки управління, які безпосередньо
примітки через магістралі або канализ'єднуються з блоками центральних
процесорів, "оперативна пам'ять" або
контролери дисків не розглядаються
як телекомунікаційне обладнання,зазначене в частині 1 розділу 5
(Зв'язок).
2. Статус контролю "програмногозабезпечення", спеціально
призначеного для комутації пакетів,
визначається з урахуванням
критеріїв, зазначених у розділі
5.D.1. (Зв'язок).
4.A. СИСТЕМИ, ОБЛАДНАННЯ ТА КОМПОНЕНТИ
4.A.1. Електронні комп'ютери і супутнє з 8471
[4A001] обладнання, наведені нижче, та
"електронні збірки" і спеціальнопризначені для них компоненти:
4.A.1.a. Спеціально призначені і мають будь-яку
з наведених нижче характеристик:
1. Розраховані для функціонування при
температурі навколишнього середовища
нижче 228 К (-45 град. C) або понад
358 К (85 град. C);
Примітка За пунктом 4.A.1.a.1 контролю не
підлягають комп'ютери, спеціальнопризначені для використання в цивільних
автомобілях або поїздах.
2. Стійкі до радіації з параметрами,
вищими ніж будь-який з наведених
нижче:
a. Загальна доза - 5 х 10 в ступ. 3
рад (Si);
b. Доза випромінювання, щовикликає збій - 5 х 10 в ступ. 6
рад (Si)/с; або
c. Одиничний збій - 1 х 10 в ступ.
мінус 7 похибка/біт/день.
4.A.1.b. Мають характеристики або виконують
функції, які перевищують межі,зазначені у частині 2 розділу 5 (Захист
інформації).
4.A.2. "Гібридні комп'ютери", наведені нижче, з 847110
[4A002] "електронні збірки" та спеціальнопризначені для них компоненти:
4.A.2.a. Що містять в собі "цифрові комп'ютери",
які підлягають контролю за пунктом
4.A.3;
4.A.2.b. Що містять в собі аналого-цифровіперетворювачі, які мають усі наведені
нижче характеристики:
1. 32 канали або більше; та
2. Роздільна здатність 14 біт (плюс
знаковий біт) або більше зі
швидкістю 200000 перетворень засекунду або більше;
4.A.3. "Цифрові комп'ютери", "електронні[4A003] збірки" і супутнє обладнання до них,
наведене нижче, та спеціальнопризначені для них компоненти:
Примітки 1. Пункт 4.A.3. включає наведене нижче:
a. Векторні процесори;
b. Матричні процесори;
c. Процесори цифрових сигналів;
d. Логічні процесори;
e. Обладнання для "поліпшення якості
зображення";
f. Обладнання для "обробленнясигналів".
2. Статус контролю "цифрових
комп'ютерів" та супутнього
обладнання, описаного в пункті
4.A.3, визначається на підставі
статусу контролю за робочимихарактеристиками інших систем або
обладнання у разі, коли:
a. "Цифрові комп'ютери" або супутнє
обладнання мають істотне значення
для роботи іншого обладнання або
систем;
b. "Цифрові комп'ютери" або супутнє
обладнання, яке не є "основним
елементом" інших систем абообладнання; та
c. "Технологія" для "цифрових
комп'ютерів" та супутньогообладнання, що належить до них,
регулюється пунктом 4.E.
Особлива Статус контролю за обладнанням,примітка спеціально призначеним для "оброблення
сигналів" або "поліпшення якостізображення" або спеціально призначеним
для іншого обладнання з функціями,
обмеженими функціональним призначенням
іншого обладнання, визначаєтьсястатусом контролю іншого обладнання,
навіть якщо воно перевищує критерій
"основного елемента";
Особлива Статус контролю - "цифровихпримітка комп'ютерів" або супутнього обладнання
для телекомунікаційних системвизначається з урахуванням критеріїв,
зазначених у частині 1 розділу 5(Зв'язок).
4.A.3.a. Призначені або модифіковані длязабезпечення "відмовостійкості";
Примітка Стосовно пункту 4.A.3.a "цифрові з 847120комп'ютери" та супутнє обладнання не
вважаються призначеними або
модифікованими для забезпечення
"відмовостійкості", якщо в нихвикористовується будь-яке з наведеного
нижче:
1. Алгоритми виявлення або виправлення
помилок, які зберігаються в"оперативній пам'яті";
2. Взаємозв'язок двох "цифрових
комп'ютерів" такий, що у разі
відмови активного центрального
процесора очікувальний процесор(який одночасно стежить за діями
центрального процесора) можезабезпечити продовження
функціонування системи;
3. Взаємозв'язок двох центральнихпроцесорів через канали передачі
даних або з використанням пам'яті
загального призначення такий, що
забезпечує можливість одному з них
виконувати іншу роботу, поки другий
не відмовить, тоді перший
центральний процесор бере його
роботу на себе, щоб продовжитифункціонування системи; або
4. Синхронізація двох центральних
процесорів, виконана через
"програмне забезпечення" таким
чином, що перший центральнийпроцесор розпізнає, коли відмовляє
другий центральний процесор і бере
на себе виконання його завдання.
4.A.3.b. "Цифрові комп'ютери", які мають з 847120
"сукупну теоретичну продуктивність"("СТР") понад 2000 Мегатопсів;
4.A.3.C. "Електронні збірки", спеціально з 847120
призначені або модифіковані дляпідвищення продуктивності
"обчислювальних елементів" шляхомоб'єднання "обчислювальних елементів"
таким чином, що "сукупна теоретична
продуктивність" перевищує межу,зазначену в пункті 4.A.3.b;
Примітка 1. За пунктом 4.A.3.c підлягаютьконтролю лише "електронні збірки" та
запрограмовані взаємозв'язки, які не
перевищують меж, зазначених у пункті
4.A.3.b, у разі постачання їх у
вигляді необ'єднаних "електронних
збірок". Контролю не підлягають"електронні збірки", які за своєю
конструкцією придатні тільки для
використання як супутнє обладнання,
яке підлягає контролю згідно з
пунктами 4.A.3.d, 4.A.3.e або4.A.3.f.
2. За пунктом 4.A.3.c контролю не
підлягають "електронні збірки",спеціально призначені для виробу або
цілого ряду виробів, які в своїй
максимальній конфігурації неперевищують межу, зазначену в пункті
4.A.3.b.
4.A.3.d. Графічні акселератори або графічні з 847120
співпроцесори, в яких швидкість з 847192обчислення "інтенсивності тривимірних 854380900
векторів" перевищує 3000000;
4.A.3.e. Обладнання, що здійснює аналого-цифрові з 8542
перетворення, які перевищують межі,
зазначені у пункті 3.A.1.a.5;
4.A.3.f. Обладнання, що містить у своєму складі 852520900
"термінальне інтерфейсне обладнання", 854380900
характеристики якого перевищують межі,
зазначені у пункті 5.A.1.b.3;
Примітка У пункті 4.A.3.f поняття "термінальне
інтерфейсне обладнання" включаєімперфейси "локальних мереж" та інші
інтерфейси зв'язку. Інтерфейси
"локальних мереж" оцінюються як"контролери доступу до мережі".
4.A.3.g. Обладнання, спеціально призначене для 852520900
забезпечення зовнішніх з'єднань 854380900
"цифрових комп'ютерів" або супутнєобладнання, що дає змогу здійснити
зв'язок зі швидкістю передачі даних
понад 80 Мбайт/с.
Примітка За пунктом 4.A.3.g контролю не
підлягає обладнання внутрішньогоз'єднання (наприклад плати, шини тощо)
або обладнання пасивного з'єднання.
4.A.4. Комп'ютери, наведені нижче і спеціально з 8471
[4A004] призначене супутнє обладнання,"електронні збірки" та компоненти для
них:
4.A.4.a. "Комп'ютери із систолічною матрицею";
4.A.4.b. "Нейронні комп'ютери";
4 A.4.c. "Оптичні комп'ютери".
4.B. ОБЛАДНАННЯ ДЛЯ ВИПРОБУВАННЯ, КОНТРОЛЮ
І ВИРОБНИЦТВА - відсутнє
4.C. МАТЕРІАЛИ - відсутні
4.D. ПРОГРАМНЕ ЗАБЕЗПЕЧЕННЯ
Примітка Статус контролю за "програмним
забезпеченням" для "розроблення",
"виробництва" або "використання"обладнання, описаного в інших розділах,
визначається відповідним розділом.
Статус контролю "програмногозабезпечення" для обладнання, описаного
в цьому розділі, пов'язаний з наведеним
нижче.
4.D.1. "Програмне забезпечення", спеціально з 8524
[4D001] призначене або модифіковане для
"розроблення", "виробництва" або
"використання" обладнання або"програмного забезпечення", зазначеного
в пунктах 4.A або 4.D.
4.D.2. "Програмне забезпечення", спеціально з 8524
[4D002] призначене або модифіковане дляпідтримки "технології", зазначеної в
пункті 4.Е.
4.D.3. Спеціальне "програмне забезпечення", з 8524[4D003] наведене нижче:
4.D.3.a. "Програмне забезпечення" операційноїсистеми, інструментарій для розроблення
"програмного забезпечення", а також
компілятори, спеціально призначені
для
обладнання "багатопотокового оброблення
даних" у "початкових кодах";
4.D.3.b. "Експертні системи" або "програмнезабезпечення" для "експертної системи"
вихідної машини, що забезпечують:
1. Правила, які залежать від часу; та
2. Просте оброблення часовиххарактеристик правил і фактів;
4.D.3.c. "Програмне забезпечення", яке маєхарактеристики або виконує функції, які
перевищують межі, встановлені в частині
2 розділу 5 (Захист інформації);
4.D.3.d. Операційні системи, спеціальнопризначені для обладнання оброблення "в
реальному масштабі часу", якігарантують "час латентності глобального
переривання" менш як 20 мкс.
4.E. ТЕХНОЛОГІЯ
4.E.1. "Технологія" відповідно до пункту 3 з 3705, 3706
[4Е001] загальних приміток для "розроблення", з 8524
"виробництва" або "використання" 490199000
обладнання або "програмного 490600000забезпечення", що підлягають контролю
за пунктами 4.A або 4.D.
Примітка Код технології за ТН ЗЕД визначається
кодом носія, на якому вонапередається.
Технічна примітка
щодо обчислення
"сукупної теоретичної продуктивності"
Скорочення, що вживаються у цій технічній примітці
"ОЕ" - "обчислювальний елемент" (типовийарифметично-логічний пристрій);
ПК - плаваюча кома;
ФК - фіксована кома;
t - час виконання операції;
XOR - АБО, що виключає;
ЦП - центральний процесор;
ТП - теоретична продуктивність (одного "ОЕ");
"СТП" - "сукупна теоретична продуктивність" (усіх"обчислювальних елементів");
R - ефективна швидкість обчислень;
ДС - довжина слова (кількість бітів);
L - коригування довжини слова (біта);
АЛП - арифметично-логічний пристрій;
х - знак множення.
Час вирішення "t" виражається в мікросекундах, ТП і "СТП" -
у мільйонах теоретичних операцій за секунду (Мегатопсах), ДС - у
бітах.
Основний метод обчислення "СТП"
"СТП" - це вимір обчислювальної продуктивності в Мегатопсах. Для
обчислення "СТП" конфігурації "обчислювальних елементів"необхідно виконати три такі етапи:
1. Визначити ефективну швидкість обчислень (R) "обчислювальних
елементів";
2. Виконати коригування на довжину слова (L) для цієї швидкості
(R), що дасть у результаті теоретичну продуктивність (ТП) для
кожного "ОЕ";
3. Об'єднати ТП і одержати сумарну "СТП" для даної конфігурації,
що має понад один "ОЕ".
Докладний опис цих процедур наведений нижче.
Примітки 1. Для об'єднання в підсистеми "обчислювальнихелементів", що мають загальну пам'ять та пам'ять
кожної підсистеми, обчислення "СТП" проводиться в два
етапи: спочатку "обчислювальні елементи" із загальною
пам'яттю об'єднуються в групи, а потім,використовуючи запропонований метод, обчислюється
"СТП" груп для всіх "обчислювальних елементів", що не
мають загальної пам'яті.
2. "Обчислювальні елементи", швидкість дії яких
обмежена швидкістю роботи пристрою введення тавиведення даних і периферійних функціональних блоків
(наприклад дисководу, контролерів системи передачі та
дисплея), не об'єднуються під час обчислення "СТП".
У таблиці демонструється метод обчислення R для кожного "ОЕ":
Етап 1: Ефективна швидкість обчислень
*Для "обчислювальних елементів", що *
*
*реалізують: *Ефективна швидкість обчислень, R *
*Примітка. Кожний "ОЕ" повинен * *
* оцінюватися незалежно. * *
****************************************************************************
*Лише ФК * 1 *
* * ---------------------, *
* * (tфк додавання) *
* *якщо операції додавання немає, *
* *то через множення: ** * *
* * 1 *
* * ---------------------, *
* * 3х(tфк множення) **(Rфк) *якщо немає ні операції додавання,*
* *ні операції множення, Rфк *
* *обчислюється через найшвидшу *
* *арифметичну операцію, якою є: ** * *
* * 1 *
* * --------------------- *
* * 3х(tфк) ** * *
* *див. Примітки X та Z. *
****************************************************************************
* * 1 1 *
*Лише ПК *max -------------, --------- *
* * tпк додавання tпк *
* * множення **(Rпк) * *
* *див. Примітки Х та Y. *
****************************************************************************
*ФК та ПК *обчислюється як Rфк, так і Rпк **(R) * *
* * 1 *
* * -------------------, *
* * 3x(tlog) *
*Для простих логічних процесорів, *де tlog - це час виконання *
*що не виконують зазначені *операції "АБО, що виключає", а *
*арифметичні операції *якщо її немає, береться *
* *найшвидша проста логічна *
* *операція. ** * *
* *див. Примітки Х та Z. *
****************************************************************************
*Для спеціалізованих логічних процесорів,* R = R" х ДС/64, **що не виконують зазначені арифметичні *де R" - число результатів за *
*та логічні операції *секунду, ДС - число бітів, над *
* *якими виконується логічна ** *операція, а 64 - коефіцієнт, що *
* *нормалізує під 64-розрядну ** *операцію.
*
Примітка W. Після повного виконання конвейєрного оброблення даних
у кожному машинному циклі може бути визначенашвидкість оброблення "ОЕ", здатного виконувати одну
арифметичну або логічну операцію. Для таких
"обчислювальних елементів" у разі використанняконвейєрного оброблення даних ефективна швидкість
обчислень (R) вища, ніж без її використання.
Примітка X. Для "ОЕ", який виконує багаторазові арифметичні
операції за один цикл (наприклад, два додавання за
цикл або дві ідентичні логічні операції за цикл), час
обчислення t визначається за формулою:
час циклу
t = --------------------------------------------.
число арифметичних операцій у циклі
"Обчислювальні елементи", що виконують різні типи
арифметично-логічних операцій в одному машинному
циклі, повинні розглядатись як множина роздільних
"обчислювальних елементів", що працюють одночасно
(наприклад, "ОЕ", що виконує в одному циклі операції
додавання та множення, повинен розглядатися як два
"обчислювальних елементи", один з яких виконуєдодавання за один цикл, а другий - множення за один
цикл).
Якщо в одному "ОЕ" реалізуються як скалярні, так і
векторні функції, то використовують значеннянайкоротшого часу виконання.
Примітка Y. Якщо в "ОЕ" не реалізується ні додавання ПК, ні
множення ПК, а виконується ділення ПК, то
1
Rпк = -----------------------.
(tпк ділення)
Якщо в "ОЕ" реалізується обернена величина "ОЕ", але
не додавання ПК, не множення ПК або не ділення ПК,
тоді
1
Rпк = --------------------------.
(tпк оберненої величини)
Якщо немає і ділення, то використовуєтьсяеквівалентна операція. Якщо жодна із зазначених
команд не використовується, то Rпк=0.
Примітка Z. Проста логічна операція - операція, в якій в одній
команді виконується одна логічна дія не більше, ніж
над двома операндами заданої довжини.
Складна логічна операція - операція, в якій в одній
команді виконуються багаторазові логічні дії над
двома чи більше операндами та видається один або
кілька результатів.
Швидкість обчислень розраховується для всіх апаратно
підтримуваних довжин операндів, розглядаючи обидві
послідовні операції (якщо підтримуються) танепослідовні операції, що використовують найкоротші
операції для кожної довжини операнда, з урахуванням:
1. Послідовні або операції регістр-регістр.Виключаються надзвичайно короткі операції, що
генеруються для операції на заздалегідьвизначеному операнді або операндах (наприклад,
множення на 0 або 1). Якщо операцій типурегістр-регістр немає, то слід керуватися пунктом
2;
2. Найшвидша операція регістр-пам'ять абопам'ять-регістр. Якщо немає і таких, то слід
керуватися пунктом 3;
3. Пам'ять-пам'ять.
У будь-якому випадку використовуйте найкоротші операції,
зазначені в паспортних даних виробником.
Етап 2: ТП для кожної довжини операнда ДС, що
підтримується.
Перерахуйте ефективну швидкість обчислень R (або R") з
урахуванням коригування довжини слова L, як наведено нижче:
ТП = R х L,
де L = (1/3 + ДС/96)
Примітка Довжина слова ДС, що використовується в цих розрахунках,
це довжина операнда в бітах. (Якщо в операції задіяні
операнди різної довжини, користуйтеся максимальною ДС).
Комбінація мантиси АЛП та експоненти АЛП в процесорі, що
плаває, або функціональному пристрої вважається одним
"ОЕ" з довжиною слова (ДС), еквівалентною кількості
бітів у подаванні даних (32 або 64 розряди) під час
обчислення "СТП".
Це перелічення не застосовується до спеціалізованих логічних
процесорів, в яких операція "виключення АБО" не використовується.
У цьому випадку ТП = R.
Вибір максимального результуючого значення ТП для:
кожного "ОЕ", що використовує лише ФК (Rфк);
кожного "ОЕ", що використовує лише ПК (Rпк);
кожного "ОЕ", що використовує комбінацію ПК та ФК ОЕ (R);
кожного простого логічного процесора, що не виконує жодної
із зазначених арифметичних операцій, та
кожного спеціального логічного процесора, що не виконує
жодної із зазначених арифметичних або логічних операцій.
Етап 3: Розрахунок "СТП" для конфігурацій "обчислювальнихелементів", включаючи ЦП
Для ЦП з одним "ОЕ" - "СТП" = ТП (для "обчислювальних
елементів", що виконують операції як з ФК, так і з ПК, ТП = мах
(ТПфк, ТПпк).
Для конфігурацій усіх "обчислювальних елементів", щопрацюють одночасно, СТП обчислюється так:
Примітки 1. Для конфігурацій, в яких усі "обчислювальні елементи"
одночасно не працюють, з можливих конфігурацій"обчислювальних елементів" обирається конфігурація з
найбільшою "СТП". Значення ТП для кожного "ОЕ"
можливої конфігурації, що використовується припідрахунку "СТП", обирається як максимально можливе
теоретичне значення.
Особлива Можливі конфігурації, в яких "обчислювальні елементи"
примітка працюють одночасно, визначаються за результатамироботи усіх "обчислювальних елементів", починаючи з
самого повільного "ОЕ" (він потребує більшої
кількості циклів для завершення операцій) та
закінчуючи найшвидшим "ОЕ". Конфігурація
"обчислювальних елементів", яка встановлюється
протягом обчислювального циклу, є можливоюконфігурацією.
Під час визначення результату повинні братися до
уваги всі технічні засоби та (або) схема обмеження
цілісності операцій, що перекриваються.
2. Один кристал інтегральної схеми або одна друкована
плата може вміщувати множину "обчислювальнихелементів".
3. Виробник обчислювальної системи в інструкції або
брошурі з експлуатації цієї системи оголошує про
наявність суміщених, паралельних або одночаснихоперацій або дій.
4. Значення "СТП" не додається для конфігурацій "ОЕ",
взаємно пов'язаних у "локальні мережі", обчислювальні
мережі, об'єднані пристроями та контролерами
введення-виведення та будь-якими іншими
взаємопов'язаними системами передавання,реалізованими програмними засобами.
5. Значення "СТП" повинні додаватися для множин"обчислювальних елементів", спеціально призначених
для підвищення їх характеристик за рахунокоб'єднання "обчислювальних елементів", їх одночасної
роботи із загальною або колективною
пам'яттю, у разі
об'єднання "обчислювальних елементів" в єдину
конфігурацію шляхом використання спеціальнопризначених технічних засобів.
Це не стосується "електронних збірок", описаних у
пункті 4.A.3.d.
"СТП" = ТП1 + С2 х ТП2 + ... + Сn х ТПn,
де ТПі - теоретична продуктивність "обчислювальних
елементів, упорядкована відповідно до їх значень,
починаючи з ТП1, що має найбільше значення, далі ТП2
i, нарешті, ТПn, що має найменше значення; i = 1,...,
n.
Сi - коефіцієнт, що визначається силою взаємозв'язків
між "обчислювальними елементами"; i = 2,..., n.
У разі множини "обчислювальних елементів", що працюють
одночасно та мають загальну пам'ять:
С2 = С3 = С4 = ... = Сn = 0,75
Примітки 1. Якщо "СТП" обчислена зазначеним методом івеличина її не перевищує 194 мегатопса, Сi може
бути визначено так:
0,75
Ci = ---------, (i = 2,..., n),
m
де m - кількість "обчислювальних елементів" або
груп "обчислювальних елементів" загальногодоступу.
Умови:
1. ТПі кожного "ОЕ" або групи "обчислювальних
елементів" не перевищує 30 мегатопсів;
2. Загальний доступ "обчислювальних елементів"
або групи "обчислювальних елементів" доосновної пам'яті (виключаючи кеш-пам'ять)
здійснюється загальним каналом; та
3. Лише один "ОЕ" або група "обчислювальних
елементів" може використовувати канал убудь-який даний час.
Особлива Зазначене вище не стосується товарів, що підлягають
примітка контролю за розділом 3.
2. Вважається, що "обчислювальні елементи"мають загальну пам'ять, якщо вони адресуються
до загального блоку твердотільної пам'яті. Ця
пам'ять може включати кеш-пам'ять, оперативну
пам'ять або іншу внутрішню пам'ять. Зовнішня
пам'ять типу дисководів, стрічкопротягувачів
або дисків з довільним доступом сюди не
входить.
Для складних "обчислювальних елементів" або груп"обчислювальних елементів", що не мають загальної пам'яті і
пов'язані одним або більше каналами передачі даних:
Сi = 0,75 х ki, якщо i = 2,... , 32 (див. примітку нижче)
= 0,60 х ki, якщо i = 33,..., 64
= 0,45 х ki, якщо i = 65,..., 256
= 0,30 х ki, якщо i більше 256),
де ki = min (Si/Kr, 1); та
Кr - нормалізуючий фактор, що дорівнює 20 Мбайт/с;
Si - сума максимальних швидкостей передавання даних (у
Мбайт/с) для всіх інформаційних каналів, які пов'язують i-ий "ОЕ"
або групу "обчислювальних елементів", що мають загальну пам'ять.
Рівень Сi базується на номері "ОЕ", але не на номері вузла.
Якщо обчислюється Сi для групи "обчислювальних елементів",
то номер першого "ОЕ" в групі визначає власну межу для Сi.
Наприклад, в конфігурації груп, що складаються з трьох"обчислювальних елементів", кожна 22-га група буде містити
"ОЕ"64, "ОЕ"65, "ОЕ"66. Власна межа для Сi для цих груп дорівнює
0,60.
Конфігурація "обчислювальних елементів" або груп"обчислювальних елементів" може бути визначена від найшвидшого до
найповільнішого, тобто:
ТП1
>= ТП2
>= .....
>= ТПn та у разі, коли ТПі = ТПі+1, від
найбільшого до найменшого, тобто:
Сi
>= Сi+1
Примітка k1 - фактор не стосується
"обчислювальних елементів"
від 2 до 12, якщо ТПі, СЕ або групи "обчислювальних
елементів" понад 50 мегатопсів, тобто Сi для"обчислювальних елементів" від 2 до 12 дорівнює
0,75.
* Розділ 5. Частина 1. ЗВ'Я30К *
******************************************************************
* Номер * Найменування продукції * Код товару *
* пункту * * за ТН ЗЕД *5. Частина 1. - ЗВ'Я30К
Примітки 1. У цьому розділі визначається статус
контролю за компонентами,
"лазерами", випробувальним та"виробничим" обладнанням,
"програмним забезпеченням" іматеріалами, спеціально призначеними
для використання у системах таобладнанні зв'язку.
2. "Цифрові комп'ютери", супутнє
обладнання або "програмнезабезпечення", яке є суттєвим для
використання і підтримки засобів
зв'язку, зазначених у цьому розділі,
розглядаються як спеціальнопризначені компоненти за умови, що
вони є стандартними моделями, які
звичайно постачаються виробником. Це
включає розроблення, управління,
використання або рекламукомп'ютерних засобів або систем.
5.A.1. СИСТЕМИ, ОБЛАДНАННЯ І КОМПОНЕНТИ
5.A.1.a. Обладнання зв'язку будь-якого типу, що з 8517
[5A001] має будь-яку з наведених нижче з 8525
характеристик, властивостей абофункцій:
1. Спеціально призначені для захисту з 8527
від транзисторного електронного з 8543
ефекту або електромагнітного
імпульсу, що виникають під часядерного вибуху;
2. Спеціально розроблені з підвищеною
стійкістю до гама-, нейтронного або
іонного випромінювання; або
3. Спеціально призначені дляфункціонування за межами інтервалу
температур від 218 К (-55 град. C)
до 397 К (124 град. C);
Примітки 1. За пунктом 5.A.1.a.3 підлягає
контролю лише електроннеобладнання.
2. За пунктами 5.A.1.a.2 та 5.A.1.a.3
контролю не підлягає обладнання,
призначене або модифіковане длявикористання на супутниках зв'язку.
5.A.1.b. Системи та обладнання зв'язку і з 8517спеціально призначені компоненти та з 8525
супутнє обладнання, що мають будь-яку з з 8527
наведених нижче характеристик, функцій з 8543
або особливостей:
Примітка До обладнання зв'язку належать:
a. Апаратура, що визначається за однією
з наведених нижче категорій або їх
комбінацій:
1. Радіоапаратура (наприклад,
передавачі, приймачі тарадіостанції);
2. Кінцева апаратура ліній;
3. Апаратура проміжних підсилювачів;
4. Ретрансляційна апаратура;
5. Апаратура ретрансляції звідновленням сигналу
(регенерації);
6. Трансляційні кодери
(транскодери);
7. Апаратура ущільнення (разом із
статистичним);
8. Модулятори/демодулятори (модеми);
9. Трансмультиплексна апаратура
(ССІТТ, Рекомендація G.701);
10. Обладнання цифрової комутації з
"вмонтованим програмним
керуванням";
11. "Шлюзи" та мости;
12. "Пристрої доступу до середовища
зв'язку"; та
b. Апаратура, призначена для
використання в одноканальних чи
багатоканальних лініях зв'язкубудь-яким з наведених нижче шляхів:
1. Провідник (лінії);
2. Коаксіальний кабель;
3. Волоконно-оптичний кабель;
4. Електромагнітне випромінювання;
або
5. Поширення акустичних хвиль під
водою.
5.А.1.b. 1. Використовують цифрові технології, 851740000
включаючи обладнання цифрового 851781900
оброблення аналогових сигналів, 851782000призначене для функціонування при 852510900
"швидкості цифрової передачі" на 852520900
верхній межі ущільнення понад 45 852692900
Мбіт/с або із "загальною швидкістю 854380900
цифрової передачі" понад 90 Мбіт/с;
Примітка За пунктом 5.A.b.1 контролю не
підлягає обладнання, спеціально
призначене для супутникових системцивільного призначення.
5.A.1.b. 2. Системи підводного зв'язку, якімають будь-яку з наведених нижче
характеристик:
a. Частота акустичної несучої 851850900частоти перевищує межі діапазону
від 20 кГц до 60 кГц;
b. Використання частоти 852520900
електромагнітної несучої нижче 30
кГц; або
c. Використання пристроїв керування 852520900
електронним випромінюванням;
3. Обладнання, яке містить будь-що з
наведеного нижче:
a. "Контролери доступу до мережі" та 852520900
пов'язані з ними загальними 854380900
засоби, що мають "швидкість
цифрової передачі" понад 156Мбіт/с; або
b. "Контролери каналів зв'язку" з 851730000
цифровим виходом, які мають 854380900"швидкість передачі даних" понад
2,1 Мбіт/с на канал;
Примітка Якщо обладнання зв'язку, яке непідлягає контролю, містить "контролери
доступу до мережі" з параметрами,
зазначеними у пункті 5.A.1.b.3, то
його переміщення здійснюється задозволом Держекспортконтролю.
5.A.1.b. 4. Обладнання, що використовує 852510900"лазери" і має буль-яку з наведених 852520900
нижче характеристик:
a. Довжина хвилі оптичного 852510900
випромінювання "лазера" понад 8525209001000 нм; або
b. Використовують аналогові
технології та мають смугупропускання понад 45 Мгц;
Примітка За пунктом 5.A.1.b.4.b контролю не
підлягають комерційні телевізійнісистеми.
c. Використовують методи когерентної 852510900
оптичної передачі або 852520900когерентного оптичного
детектування (також відомі як
оптичні гетеродинні чи гомодинні
методи);
d. Використовують методи ущільнення
852510900
з розподілом за довжиною хвилі; 852520900
або
e. Здійснюють "оптичне підсилення"; 852510900
852520900
5. Радіоапаратура, яка функціонує на 852510900
частотах вхідного чи вихідного 852520900сигналу понад 31 ГГц;
Примітка За пунктом 5.A.1.b.5 контролю непідлягає обладнання, призначене або
модифіковане для роботи у будь-якому
діапазоні частот Міжнародного союзу
електрозв'язку (ITU).
6. Радіоапаратура, яка використовує 852510900будь-які з наведених нижче методів: 852520900
a. Методи квадратурної амплітудної 854380900
модуляції (QAM) з кількістюрівнів понад 4, якщо "загальна
швидкість цифрової передачі"перевищує 8,5 Мбіт/с;
b. Методи квадратурної амплітудної
модуляції (QAM) з кількістюрівнів понад 16, якщо "загальна
швидкість цифрової передачі"дорівнює або менше 8,5 Мбіт/с;
або
c. Інші методи цифрової модуляції,
що мають "спектральнуефективність" понад 3 біт/с/Гц.
Примітки 1. За пунктом 5.A.1.b.6 контролю непідлягає обладнання радіозв'язку,
спеціально призначене длявикористання у будь-якій
супутниковій системі зв'язкуцивільного призначення.
2. За пунктом 5.A.1.b.6 контролю не
підлягає радіорелейне обладнання,
призначене для використання удіапазоні частот Міжнародного союзу
електрозв'язку (ITU) і має будь-що з
наведеного нижче:
a. 1. Робочу частоту, яка неперевищує 960 М Гц; або
2. "Загальну швидкість цифрової
передачі", яка не перевищує 8,5
Мбіт/с; та
b. "Спектральну ефективність", яка
не перевищує 4 біт/с/Гц.
5.A.1.b.7. Радіоапаратура, яка функціонує в 852520900діапазоні частот від 1,5 МГц до 87,5 854380900
МГц і має будь-яку з наведених нижче
характеристик:
a. Наявність адаптивних пристроїв, що
забезпечують приглушення сигналуперешкод більш ніж на 15 дБ; або
b. Має все з наведеного нижче:
1. Автоматичне прогнозування та
вибір значень частот дляоптимізації "загальної швидкості
цифрової передачі"; та
2. Наявність лінійного підсилювача 852510900
потужності, здатного одночасно 852520900
підтримувати множину сигналів з
вихідною потужністю 1 кВт чи
більше в частотному діапазоні від
1,5 МГц до 30 МГц або 250 Вт або
більше в частотному діапазоні від
30 МГц до 87,5 МГц, при "смузі
пропускання" понад одну октаву
або більше і з вмістом гармонік
та спотворювань на виході не
більш як -80 дБ;
8. Радіоапаратура, яка використовує
методи "розширення спектра"(шумоподібні сигнали) або методи
"швидкого переналагодження частоти"
(стрибкоподібної перебудови частоти)
і має будь-яку з наведених нижче
характеристик:
a. Наявність кодів розширення, що 852520900
мають можливість програмування
користувачем; або
b. Загальна ширина смуги частот 852520900передачі, яка в 100 і більше
разів перевищує смугу частотодного інформаційного каналу і
становить понад 50 кГц;
Примітки 1. За пунктом 5.A.1.b.8.b контролю не
підлягає обладнання для стільникових
систем радіозв'язку, яке функціонує
у межах смуг радіочастот цивільного
призначення.
2. За пунктом 5.A.1.b.8 контролю не
підлягає обладнання, призначене для
експлуатації при вихідній потужності
1,0 Вт або менше.
3. Обладнання зв'язку, що функціонує у
межах смуг радіочастот військового
призначення підлягає контролю за
Списком товарів військового
призначення, міжнародні передачіяких підлягають державному контролю,
затвердженого постановою Кабінету
Міністрів України від 8 грудня 1997
р. N 1358
4. Межі смуг радіочастот цивільного та
військового призначення визначені у
Національній таблиці розподілу смуг
радіочастот України, затвердженій
постановою Кабінету МіністрівУкраїни від 12 жовтня 1995 р. N
803.
5.A.1.b. 9. Радіоприймачі з цифровим з 8527керуванням, які мають усі наведені
нижче характеристики:
a. Число каналів понад 1000;
b. Мають "час перемикання частоти"
менше 1 мс;
c. Здійснюють автоматичний пошук або
сканують частину
електромагнітного спектра; та
d. Ідентифікують прийнятий сигнал
або тип передавача; або
Примітка За пунктом 5.A.1.b.9 контролю не
підлягають радіообладнання длястільникових систем радіозв'язку, яке
функціонує у межах смуг радіочастот
цивільного призначення.
10. Виконує функції цифрового 852520900
"оброблення сигналів", які 854380900забезпечують цифрове кодування мови
зі швидкістю менш як 2400 біт/с.
5.A.1.c. Комутаційне обладнання з "вмонтованим
програмним керуванням" і системисигналізації до них, що мають будь-яку
з наведених нижче характеристик,функцій або ознак, а також спеціально
призначені для них компоненти тадопоміжне обладнання (аксесуари):
Примітка Статистичні мультиплексори з цифровим
входом та цифровим виходом, що
здійснюють функції комутації,
розглядаються як комутатори з"вмонтованим програмним керуванням".
1. "Системи сигналізації по загальному 854380900
каналу", що працюють в режимінезв'язаного сигнального каналу або
в режимі квазізв'язаного сигнального
каналу;
2. "Динамічна адаптивна маршрутизація" 851730000
потоків інформаційного обміну 854380900(даних);
Примітка За пунктом 5.A.1.c.2 контролю непідлягають комутатори пакетів, каналів
та маршрутні комутатори з портами чи
каналами, що не перевищують меж,зазначених у пункті 5.A.1.c.3.
5.A.1.c. 3. Комутатори
пакетів, каналів та 854380900маршрутні комутатори з портами або
каналами, параметри яких перевищують
будь-який з наведених нижче:
a. "Швидкість передачі даних" 2,1
Мбіт/с на канал для "контролера
каналу зв'язку"; або
Примітка За пунктом 5.A.1.c.3.a контролю непідлягають комутатори складених ліній
зв'язку, що складаються тільки з
каналів зв'язку, кожен з яких не
підлягає контролю індивідуально запунктом 5.A.1.c.3.a.
b. "Швидкість цифрової передачі" 156
Мбіт/с для "контролера доступу до
мережі" та пов'язаного з ним
загального середовища;
4. "Оптична комутація"; 854380900
5. Використовують методи "асинхронного 854380900
режиму передачі" (АТМ).
5.A.1.d. Волоконно-оптичні кабелі зв'язку, 854470000оптичні волокна і спеціально призначені 900110100
для них компоненти та допоміжне 900110900обладнання, наведене нижче: 900190900
1. Волоконно-оптичні кабелі або оптичні
волокна завдовжки понад 50 м, які
мають будь-яку з наведених нижче
характеристик:
a. Призначені для функціонування в
одномодовому режимі; або
b. Для оптичних волокон, обумовлених
виробником як здатних витримувати
під час контрольних випробувань
механічну напругу 2 х 10 в ступ.
9 Н/кв. м або більше.
Технічна Контрольні випробування: перевірка на
примітка стадіях виготовлення або післявиготовлення полягає у прикладанні
заданої напруги до волокна завдовжки
від 0,5 до 3 м на швидкості ходу від 2
до 5 м/с під час проходження волокон
між провідними валами приблизно 150 мм
у діаметрі. При цьому зовнішнянавколишня температура становить 293 К
(20 град. C), відносна вологість - 40
відсотків.
Особлива Для виконання контрольних випробувань
примітка можуть застосовуватися інші національні
стандарти.
2. Волоконно-оптичні кабелі та 854470000допоміжне обладнання, призначені для 900110900
використання під водою. 900190900
Примітки 1. За пунктом 5.A.1.d.2 контролю не 901320000
підлягають стандартні цивільнікабелі зв'язку та супутнє обладнання
до них.
2. Для волоконно-оптичних з'єднувачів
та вимірювачів випромінювання
контроль здійснюється згідно звимогами розділу 8.A.2.c.
5.A.1.e. "Фазовані антенні гратки з електронним з 852910
скануванням променю" та діаграмоюнапрямку, які працюють у діапазоні
частот понад 31 ГГц,
Примітка За пунктом 5.A.1.e контролю непідлягають "фазовані антенні гратки з
електронним скануванням променю" для
систем посадки, оснащених обладнанням
та приладами, що відповідають вимогам
Міжнародної організації цивільної
авіації (IСАО) в стандартахмікрохвильових систем посадки (MLS).
5.B.1. ОБЛАДНАННЯ ДЛЯ ВИПРОБУВАННЯ, КОНТРОЛЮ
І ВИРОБНИЦТВА
5.B.1.a. Обладнання і спеціально призначені з 854380
[5B001] компоненти або аксесуари до нього, 902680
спеціально призначені для 903039
"розроблення", "виробництва" або 903089"використання" обладнання, матеріалів, 903180
функцій або ознак, що підлягаютьконтролю за частиною 1 розділу 5.
(Зв'язок).
Примітка За пунктом 5.B.1 контролю не
підлягають оптичні волокна та"волоконно-оптичні заготовки",
призначені для обладнання, що невикористовує напівпровідникові
"лазери".
5.C.1. МАТЕРІАЛИ
5.C.1.a. Заготовки зі скла або будь-яких інших
[5C001] матеріалів, що можуть бути використані
для виробництва оптичних волокон,зазначених у пункті 5.A.1.d.
5.D.1. ПРОГРАМНЕ ЗАБЕЗПЕЧЕННЯ
5.D.1.a. "Програмне забезпечення", спеціально з 8524
[5C001] призначене чи модифіковане для
"розроблення", "виробництва" або"використання" обладнання, функцій або
ознак, зазначених у частині 1 розділу 5
(Зв'язок).
5.D.1.b. "Програмне забезпечення", спеціально з 8524
розроблене або модифіковане дляпідтримки "технологій", зазначених у
Джерело: Єдиний державний реєстр нормативно-правових актів Міністерства юстиції України · картка акта · текст у реєстрі